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电子束蒸发YIG材料
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gao198907
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电子束蒸发YIG材料
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大家好,我是做电子束蒸发方向的,新买的电子束蒸发设备,用来蒸发Y3Fe5O12这种材料,大块靶材蒸发时碎裂弹出坩埚,所以把靶材敲成小碎块,发现薄膜生长速度0.1埃左右很慢,像镀铝这种就很快,是什么原因。
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1楼
2014-09-03 16:22:52
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专业: 凝聚态物性 II :电子结构
【答案】应助回帖
感谢参与,应助指数 +1
像YIG这种氧化物靶材确实应该是块体或者粉末状的,不容易裂开。
YIG本身熔点比较高,蒸发慢,镀膜速度肯定比不上铝这样的低熔点金属。提高电子束功率就能镀快一些。另外还要注意电子束的扫描模式,蒸镀金属的时候电子束斑是集中在很小的点上的,镀氧化物电子束应该是在整个靶材表面扫描,这样受热均匀。
我觉得镀YIG这样的复杂氧化物0.1A/s的速度应该够了,镀慢一点薄膜质量好一些...
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5楼
2014-09-04 10:12:29
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专业: 金属功能材料
电子束蒸发本来就很慢,你可以调靶-沉淀间距
你们买的哪里的电子束蒸发系统?多少钱?
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2楼
2014-09-03 17:31:20
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gao198907
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2楼
:
Originally posted by
wbcui
at 2014-09-03 17:31:20
电子束蒸发本来就很慢,你可以调靶-沉淀间距
你们买的哪里的电子束蒸发系统?多少钱?
调距离,工程师说这个距离小了,膜厚就不均匀了
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3楼
2014-09-03 18:15:52
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wbcui
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3楼
:
Originally posted by
gao198907
at 2014-09-03 19:15:52
调距离,工程师说这个距离小了,膜厚就不均匀了...
哦,你们的应该是共沉积,抢是斜着的那种。这样的确会引起膜厚不均匀。
你们的设备是哪里买的?多少钱?
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4楼
2014-09-03 21:17:18
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