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gao198907

铜虫 (小有名气)

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专业: 半导体晶体与薄膜材料

[求助] 电子束蒸发YIG材料已有2人参与

大家好，我是做电子束蒸发方向的，新买的电子束蒸发设备，用来蒸发Y3Fe5O12这种材料，大块靶材蒸发时碎裂弹出坩埚，所以把靶材敲成小碎块，发现薄膜生长速度0.1埃左右很慢，像镀铝这种就很快，是什么原因。

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薄膜

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1楼 2014-09-03 16:22:52

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whywhy01

金虫 (小有名气)

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专业: 凝聚态物性 II ：电子结构

【答案】应助回帖

引用回帖:

8楼: Originally posted by gao198907 at 2014-09-05 21:51:41
靶材也用过粉末状的，用的纳米粉末压成片，但是没有烧结致密度差，里面有空气，对真空影响很大，还没开始真空度都到10^—2级别了，我们电子枪工作压强要在5×10^-2以下，所以电子枪会自动关掉，而且加束流的时候， ...

你们的背底只有10^-2托吗？如果有两级真空泵的话应该先抽到10^-7托以下，粉末的靶材大约7到12个小时差不多了，那样就不会超了。
用一堆小碎块更不容易放烟花。扫描模式是怎样的？
还可以控制束流在放烟花的临界点上，速度显示可能是0，但是慢慢等还是能有厚度加上去的，需要手动计时换算沉积速度了。这个方法镀膜极慢，不是很推荐