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gao198907

铜虫 (小有名气)

[求助] 电子束蒸发YIG材料 已有2人参与

大家好,我是做电子束蒸发方向的,新买的电子束蒸发设备,用来蒸发Y3Fe5O12这种材料,大块靶材蒸发时碎裂弹出坩埚,所以把靶材敲成小碎块,发现薄膜生长速度0.1埃左右很慢,像镀铝这种就很快,是什么原因。
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whywhy01

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

引用回帖:
8楼: Originally posted by gao198907 at 2014-09-05 21:51:41
靶材也用过粉末状的,用的纳米粉末压成片,但是没有烧结 致密度差,里面有空气,对真空影响很大,还没开始真空度都到10^—2级别了,我们电子枪工作压强要在5×10^-2以下,所以电子枪会自动关掉,而且加束流的时候, ...

你们的背底只有10^-2托吗?如果有两级真空泵的话应该先抽到10^-7托以下,粉末的靶材大约7到12个小时差不多了,那样就不会超了。
用一堆小碎块更不容易放烟花。扫描模式是怎样的?
还可以控制束流在放烟花的临界点上,速度显示可能是0,但是慢慢等还是能有厚度加上去的,需要手动计时换算沉积速度了。这个方法镀膜极慢,不是很推荐
9楼2014-09-06 01:05:03
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wbcui

至尊木虫 (知名作家)

电子束蒸发本来就很慢,你可以调靶-沉淀间距

你们买的哪里的电子束蒸发系统?多少钱?
2楼2014-09-03 17:31:20
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gao198907

铜虫 (小有名气)

引用回帖:
2楼: Originally posted by wbcui at 2014-09-03 17:31:20
电子束蒸发本来就很慢,你可以调靶-沉淀间距

你们买的哪里的电子束蒸发系统?多少钱?

调距离,工程师说这个距离小了,膜厚就不均匀了
3楼2014-09-03 18:15:52
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wbcui

至尊木虫 (知名作家)

引用回帖:
3楼: Originally posted by gao198907 at 2014-09-03 19:15:52
调距离,工程师说这个距离小了,膜厚就不均匀了...

哦,你们的应该是共沉积,抢是斜着的那种。这样的确会引起膜厚不均匀。


你们的设备是哪里买的?多少钱?
4楼2014-09-03 21:17:18
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