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shiyu_xueshu新虫 (小有名气)
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掺杂后DOS图解释，急求已有2人参与
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各位大侠： 之前我也曾发表过一个类似的贴子，结果没有人回复，也不知道是肿么回事？我是用VASP对Fe2O3中的间隙H掺杂进行研究，掺杂后利用origin画出来的DOS图如下图所示，不知道怎么解释费米面附近的变化啊！急求比较懂的高人帮忙解答一下，我自己也在尽力的寻找解决办法。多谢！  超胞对比图1.jpg |
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shiyu_xueshu
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好的，谢谢侯老师。我前边表述的确实挺混乱的，只有我自己明白。原始问题是240个原子的超胞加一个间隙H得到的结果，间隙的位置是我随便加的，我也觉得不严谨。不过我同时也做了Fe2O3单胞30个原子加一个间隙H的结果了，如下图所示，这个图严谨些，也许我们可以拿来讨论一下。 此图中，a是30个原子的Fe2O3单胞的DOS图，b是间隙位置加了一个H的Fe2O3单胞的DOS图。 1、掺杂浓度为1/30,即3.3% 2、我分别计算了四面体间隙加H和八面体间隙加H的形成能，发现四面体间隙更稳定。结合计算的四面体间隙大小，八面体间隙大小，以及H原子的大小，也认为在四面体更稳定。所以此图对应的H是在四面体间隙位置。 3、Fe2O3中的四面体间隙是由4个O形成的，我就是在任意一个O上连了一个H（用MS实现的），然后用vasp优化计算的。所以我认为应该是H离O最近吧？我也不太确定。这个离哪个原子最近您是根据什么方法判断的呢？ 4、最后单胞加H的图形看起来也是类似于超胞加氢，还是费米面附近的缺陷态能级的问题，似乎H的贡献还是在价带下方，我不知道怎么去理解。 5、并且在加H之后，磁性也发生了变化。我给您看看加H之后的上下自旋态密度图。所以这些曲线是不是能结合在一起分析费米能级处能级的变化以及带隙的变化？ 问题有点多，谢谢您的倾听和解答。  单胞掺杂对比20140724.jpg  单胞加H后总DOS上下自旋对比图.jpg |
9楼2014-07-24 15:51:12
shiyu_xueshu
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