【答案】应助回帖

坚持就是胜利，敏而好学，不耻下问。

1楼2014-07-21 15:01:51

shiyu_xueshu

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自己先顶一下。加油！

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2楼2014-07-21 15:02:19

孙远慧

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【答案】应助回帖

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shiyu_xueshu: 金币+10, ★有帮助 2014-07-24 09:04:36

你不说清楚谁回答你啊，说清楚点。。

dsfgdsgsfd

3楼2014-07-22 20:39:52

shiyu_xueshu

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3楼: Originally posted by 孙远慧 at 2014-07-22 20:39:52
你不说清楚谁回答你啊，说清楚点。。

就是老板说让算一下间隙氢对Fe2O3电导方面的影响，我下面a图是空白样超胞做的DOS图，加了自旋了，上面b图是在空白样超胞的四面体间隙加入了一个氢原子，再计算的DOS，然后得到的前后对比图，然后我不知道怎么解释，带隙是变小了些，但是不知道怎么解释。我是学材料的，物理方面差些，不知道我这样描述说清楚了吗？谢谢！

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4楼2014-07-22 20:43:16

shiyu_xueshu

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3楼: Originally posted by 孙远慧 at 2014-07-22 20:39:52
你不说清楚谁回答你啊，说清楚点。。

我这次做的是间隙H掺杂Fe2O3，下图a是空白的Fe2O3超胞，上图b是掺杂H之后的Fe2O3的DOS图。可以看到掺杂后带隙减小。通常解释带隙减小，我看的最多的是替代型（替换一个原子）掺杂的理论研究，就是说在费米面附近出现了杂化能级，并且是杂质原子贡献的。但我的这个体系做的是间隙掺杂，并且H的DOS的贡献（从图中可以看到，红色的那条线，右边是其纵轴）是在价带下部，不在费米面附近，就不能套用这种杂化理论去解释。但我的结果表明，带隙减小，费米面附近确实出现了一个分出来的新峰，这个峰怎么解释？如果最好能由此说明带隙减小的原因，就最好了。谢谢！对了，我在计算的过程中有加自旋，自认为计算过程应该没问题。希望您听懂我表达的意思了，能指教指教我，不甚感激。谢谢！

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5楼2014-07-23 15:25:43

valenhou001

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fzx2008: 金币+3, 谢谢指导 2014-07-23 19:38:13
shiyu_xueshu: 金币+20, ★★★很有帮助, 谢谢帮助 2014-07-24 09:04:20

不能说是能带减小了。带隙中的峰来自你掺杂的H导致的缺陷态，费米能级"钉扎"在缺陷能级了。

你的H间隙靠近什么原子？从你的DOS图来看，似乎是靠近Fe原子。你检查H在不同间隙位置了吗？比较它们的稳定性了吗？另外你的H间隙浓度是多少？简单的拿出一张图，不能描述清楚问题。

6楼2014-07-23 17:01:33

shiyu_xueshu

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6楼: Originally posted by valenhou001 at 2014-07-23 17:01:33
不能说是能带减小了。带隙中的峰来自你掺杂的H导致的缺陷态，费米能级"钉扎"在缺陷能级了。

你的H间隙靠近什么原子？从你的DOS图来看，似乎是靠近Fe原子。你检查H在不同间隙位置了吗？比较它们的稳定性 ...

谢谢侯老师的点拨，我整理一下，一一回答您的问题。

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7楼2014-07-24 09:05:16

valenhou001

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7楼: Originally posted by shiyu_xueshu at 2014-07-24 10:05:16
谢谢侯老师的点拨，我整理一下，一一回答您的问题。...

这个不是回答我的问题，我只是提醒一点要注意的。

8楼2014-07-24 09:06:40

shiyu_xueshu

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8楼: Originally posted by valenhou001 at 2014-07-24 09:06:40
这个不是回答我的问题，我只是提醒一点要注意的。...

好的，谢谢侯老师。我前边表述的确实挺混乱的，只有我自己明白。原始问题是240个原子的超胞加一个间隙H得到的结果，间隙的位置是我随便加的，我也觉得不严谨。不过我同时也做了Fe2O3单胞30个原子加一个间隙H的结果了，如下图所示，这个图严谨些，也许我们可以拿来讨论一下。
此图中，a是30个原子的Fe2O3单胞的DOS图，b是间隙位置加了一个H的Fe2O3单胞的DOS图。
1、掺杂浓度为1/30,即3.3%
2、我分别计算了四面体间隙加H和八面体间隙加H的形成能，发现四面体间隙更稳定。结合计算的四面体间隙大小，八面体间隙大小，以及H原子的大小，也认为在四面体更稳定。所以此图对应的H是在四面体间隙位置。
3、Fe2O3中的四面体间隙是由4个O形成的，我就是在任意一个O上连了一个H（用MS实现的），然后用vasp优化计算的。所以我认为应该是H离O最近吧？我也不太确定。这个离哪个原子最近您是根据什么方法判断的呢？
4、最后单胞加H的图形看起来也是类似于超胞加氢，还是费米面附近的缺陷态能级的问题，似乎H的贡献还是在价带下方，我不知道怎么去理解。
5、并且在加H之后，磁性也发生了变化。我给您看看加H之后的上下自旋态密度图。所以这些曲线是不是能结合在一起分析费米能级处能级的变化以及带隙的变化？
问题有点多，谢谢您的倾听和解答。

单胞掺杂对比20140724.jpg

单胞加H后总DOS上下自旋对比图.jpg

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9楼2014-07-24 15:51:12

valenhou001

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"从你的DOS图来看，似乎是靠近Fe原子."
这个评论有点不正确。态密度显示H间隙原子靠近O，因为你的态密度图中，H的s态与O的p态有重叠。建议你画出与H靠近的O以及与该O靠近的Fe原子的分波态密度。那个带隙中的杂质态，是因为H间隙影响了与之相邻的O原子的价态，以及Fe的晶体场，从而与该O相邻的Fe的价态也略有变化。你可以先看未掺杂H间隙前，Fe2O3中的Fe是什么配位场（四面体、或八面体等，这个从原子结构就可以大致看出来的），以及画出Fe原子的分波态密度。另外对比这个这个特定Fe原子（即与H靠近的O以及与该O靠近的Fe原子）的Fe-O键长、O-Fe-O键角在H间隙掺杂前后的变化。还有，你也可以做个Bader charge analysis，看这个特定Fe原子的电荷有无变化，若有变化，变化大致是多少。通过这些就可以大致分析出那个带隙中杂质态的起源。

10楼2014-07-24 16:21:41