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shiyu_xueshu新虫 (小有名气)
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[求助]
掺杂后DOS图解释，急求 已有2人参与
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各位大侠： 之前我也曾发表过一个类似的贴子，结果没有人回复，也不知道是肿么回事？我是用VASP对Fe2O3中的间隙H掺杂进行研究，掺杂后利用origin画出来的DOS图如下图所示，不知道怎么解释费米面附近的变化啊！急求比较懂的高人帮忙解答一下，我自己也在尽力的寻找解决办法。多谢！  超胞对比图1.jpg |
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3楼2014-07-22 20:39:52
shiyu_xueshu
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2楼2014-07-21 15:02:19
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4楼2014-07-22 20:43:16
shiyu_xueshu
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我这次做的是间隙H掺杂Fe2O3，下图a是空白的Fe2O3超胞，上图b是掺杂H之后的Fe2O3的DOS图。可以看到掺杂后带隙减小。通常解释带隙减小，我看的最多的是替代型（替换一个原子）掺杂的理论研究，就是说在费米面附近出现了杂化能级，并且是杂质原子贡献的。但我的这个体系做的是间隙掺杂，并且H的DOS的贡献（从图中可以看到，红色的那条线，右边是其纵轴）是在价带下部，不在费米面附近，就不能套用这种杂化理论去解释。但我的结果表明，带隙减小，费米面附近确实出现了一个分出来的新峰，这个峰怎么解释？如果最好能由此说明带隙减小的原因，就最好了。谢谢！对了，我在计算的过程中有加自旋，自认为计算过程应该没问题。希望您听懂我表达的意思了，能指教指教我，不甚感激。谢谢！ |
5楼2014-07-23 15:25:43
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