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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 计算模拟区 » 第一性原理 » Vasp&MedeA » 掺杂后DOS图解释，急求
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shiyu_xueshu

新虫 (小有名气)

[求助] 掺杂后DOS图解释，急求已有2人参与

各位大侠：
      之前我也曾发表过一个类似的贴子，结果没有人回复，也不知道是肿么回事？我是用VASP对Fe2O3中的间隙H掺杂进行研究，掺杂后利用origin画出来的DOS图如下图所示，不知道怎么解释费米面附近的变化啊！急求比较懂的高人帮忙解答一下，我自己也在尽力的寻找解决办法。多谢！

掺杂后DOS图解释，急求
超胞对比图1.jpg
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1楼2014-07-21 15:01:51
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shiyu_xueshu

新虫 (小有名气)
引用回帖:
3楼: Originally posted by 孙远慧 at 2014-07-22 20:39:52
你不说清楚谁回答你啊，说清楚点。。

我这次做的是间隙H掺杂Fe2O3，下图a是空白的Fe2O3超胞，上图b是掺杂H之后的Fe2O3的DOS图。可以看到掺杂后带隙减小。通常解释带隙减小，我看的最多的是替代型（替换一个原子）掺杂的理论研究，就是说在费米面附近出现了杂化能级，并且是杂质原子贡献的。但我的这个体系做的是间隙掺杂，并且H的DOS的贡献（从图中可以看到，红色的那条线，右边是其纵轴）是在价带下部，不在费米面附近，就不能套用这种杂化理论去解释。但我的结果表明，带隙减小，费米面附近确实出现了一个分出来的新峰，这个峰怎么解释？如果最好能由此说明带隙减小的原因，就最好了。谢谢！对了，我在计算的过程中有加自旋，自认为计算过程应该没问题。希望您听懂我表达的意思了，能指教指教我，不甚感激。谢谢！
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5楼2014-07-23 15:25:43
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shiyu_xueshu

新虫 (小有名气)
自己先顶一下。加油！
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2楼2014-07-21 15:02:19
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孙远慧

木虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
shiyu_xueshu: 金币+10, ★有帮助 2014-07-24 09:04:36
你不说清楚谁回答你啊，说清楚点。。
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dsfgdsgsfd
3楼2014-07-22 20:39:52
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shiyu_xueshu

新虫 (小有名气)
引用回帖:
3楼: Originally posted by 孙远慧 at 2014-07-22 20:39:52
你不说清楚谁回答你啊，说清楚点。。

就是老板说让算一下间隙氢对Fe2O3电导方面的影响，我下面a图是空白样超胞做的DOS图，加了自旋了，上面b图是在空白样超胞的四面体间隙加入了一个氢原子，再计算的DOS，然后得到的前后对比图，然后我不知道怎么解释，带隙是变小了些，但是不知道怎么解释。我是学材料的，物理方面差些，不知道我这样描述说清楚了吗？谢谢！

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
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4楼2014-07-22 20:43:16
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