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shiyu_xueshu新虫 (小有名气)
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[求助]
掺杂后DOS图解释，急求 已有2人参与
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各位大侠： 之前我也曾发表过一个类似的贴子，结果没有人回复，也不知道是肿么回事？我是用VASP对Fe2O3中的间隙H掺杂进行研究，掺杂后利用origin画出来的DOS图如下图所示，不知道怎么解释费米面附近的变化啊！急求比较懂的高人帮忙解答一下，我自己也在尽力的寻找解决办法。多谢！  超胞对比图1.jpg |
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valenhou001
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不能说是能带减小了。带隙中的峰来自你掺杂的H导致的缺陷态，费米能级"钉扎"在缺陷能级了。 你的H间隙靠近什么原子？从你的DOS图来看，似乎是靠近Fe原子。你检查H在不同间隙位置了吗？比较它们的稳定性了吗？ 另外你的H间隙浓度是多少？简单的拿出一张图，不能描述清楚问题。 |
6楼2014-07-23 17:01:33
shiyu_xueshu
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shiyu_xueshu
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