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billbier

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[求助] 负载NiMo催化剂NH3-TPD预处理问题请教 已有1人参与

如题
本人做的是NiMo-氧化铝 负载催化剂,需要氨气TPD测定其酸性,实验室的师兄师姐们有用500℃下脱附预处理的,也有用150℃下脱附处理的
也查阅了相关文献和论坛帖子,有人说出峰到多少℃,则预处理就需要多少℃。我表示很费解,如果300℃下焙烧的催化剂,出峰也能出道600多℃,预处理到600℃肯定不合理啊,只能低于300.
问题:
1、预处理是不是脱除表面吸附的物质和水?水是不是占主要?
2、预处理的温度需要这么高吗/
3、理论上说,是否统一处理温度即可?
挺希望侯老师来解答下的,就冒昧的通知了侯老师,请谅解。
@zyhou
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【答案】应助回帖

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感谢参与,应助指数 +1
qixingzhen: 金币+1, 多谢回帖,欢迎常来 2014-04-30 22:14:00
billbier: 金币+50, ★★★★★最佳答案, 谢谢侯老师 2014-05-05 14:51:29
这么复杂的体系!
最好用质谱来检测,可以只测量氨的信号!即使有水也没有关系。你的预处理和你的使用条件一致就可以。
如果用TCD检测,由于无法排除脱附的水对TCD信号的干扰,所以预处理温度要高一些!但是,高温预处理又可能改变你的催化剂结构。好吧!尾气加上一个脱水管试试看吧!

» 本帖已获得的红花(最新10朵)

2楼2014-04-30 22:05:19
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billbier

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送红花一朵
引用回帖:
2楼: Originally posted by zyhou at 2014-04-30 22:05:19
这么复杂的体系!
最好用质谱来检测,可以只测量氨的信号!即使有水也没有关系。你的预处理和你的使用条件一致就可以。
如果用TCD检测,由于无法排除脱附的水对TCD信号的干扰,所以预处理温度要高一些!但是,高温 ...

好的,谢谢侯老师。如果没有质谱的话,预处理是不是最好得到400℃,我的催化剂焙烧温度为500,使用温度在350~400之间

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3楼2014-05-01 10:21:15
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billbier

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引用回帖:
3楼: Originally posted by billbier at 2014-05-01 10:21:15
好的,谢谢侯老师。如果没有质谱的话,预处理是不是最好得到400℃,我的催化剂焙烧温度为500,使用温度在350~400之间
...

检测器确实是TCD的

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4楼2014-05-01 10:22:03
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