| 查看: 668 | 回复: 0 | |||
[求助]
关于磁控溅射沉积FeMn薄膜参数设置的问题
|
| 新拿到一个研究方向,需要用磁控溅射沉积FeMn薄膜,对具体工艺参数不太清楚,各位能否给我一下具体的参数,包括溅射功率,沉积速率,Ar流量等,不甚感激! |
» 猜你喜欢
修改论文,如何借助其他力量?
已经有4人回复
中山大学潘越教授课题组2027级推免硕士研究生招生 新增一个专业医学技术名额
已经有21人回复
无机化学论文润色/翻译怎么收费?
已经有202人回复
哈尔滨工程大学国家级青年人才-27年申请考核制博士招生(材料、化学、生物医学专业)
已经有12人回复
HRTEM/原位TEM/HRSTEM检测|价格优·周期短·可加急
已经有0人回复
大家平时也可以交流下
已经有1人回复
ELSEVIER旗下投稿decision in process后with editor,应该如何理解
已经有15人回复
找到一些相关的精华帖子,希望有用哦~
磁控溅射ZnO薄膜电阻太大
已经有19人回复
磁控溅射制备CZTS薄膜
已经有6人回复
请教一个关于磁控溅射的问题 在靶材上贴片
已经有16人回复
在有机物薄膜上磁控溅射金属电极的问题
已经有5人回复
请教一个磁控溅射制备薄膜的问题,用相同功率的直流和射频溅射金属靶效果有什么不同?
已经有13人回复
Sputter磁控溅射的设置单位问题
已经有9人回复
请教磁控溅射的气压和功率对薄膜质量的作用,谢谢!
已经有20人回复
磁控溅射能起辉,但不能沉积
已经有21人回复
磁控溅射做薄膜失败了吗
已经有21人回复
求助关于磁控溅射的问题
已经有29人回复
【请教】请教,关于Ar磁控溅射的溅射效率问题
已经有4人回复
【求助】关于磁控溅射SiO2的问题
已经有14人回复
科研从小木虫开始,人人为我,我为人人










回复此楼
点击这里搜索更多相关资源