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小菜虫000

新虫 (初入文坛)

[求助] XRD测试,用薄膜测试法和粉末测试法出来的结果完全不同!!

我PLD制备的ZnO掺Mg薄膜,为啥我用不同的测试方法出来的数据完全不同,如下图。上面是我用粉末法测试的,下面的是薄膜法测试的且薄膜测试的能量更高!求解!
XRD测试,用薄膜测试法和粉末测试法出来的结果完全不同!!
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crazy1987

铁虫 (小有名气)

引用回帖:
5楼: Originally posted by 小菜虫000 at 2013-12-17 17:45:28
那个就是ZnO(002)峰吧...

有可能,不知道他用的是什么基片,不过很明显,这个就是基片的峰
6楼2013-12-18 15:15:08
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liu2004m

荣誉版主 (文坛精英)

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【答案】应助回帖

测试方法不同导致的,薄膜一般用掠入射的方法进行测量
2楼2013-12-16 21:03:14
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crazy1987

铁虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

如果是普通的粉末法(其实不叫粉末法)测试的话,那应该是普通扫描,那么,如果你的薄膜是附在一个pt基片或别的基片上,那么第一个图的图谱主要峰应该是基片材料的峰,而第二个扫描的掠入射扫的很差
3楼2013-12-17 10:19:37
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小菜虫000

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
2楼: Originally posted by liu2004m at 2013-12-16 21:03:14
测试方法不同导致的,薄膜一般用掠入射的方法进行测量

为什么会这么大差距呢?两种测试方法会有差别,但不会出现这种本质上的差别吧,出来的相都不一样了
4楼2013-12-17 17:44:44
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