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关于催化剂的H2-TPR表征
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hjh19870106
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关于催化剂的H2-TPR表征
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各位大侠,我在催化剂H2-TPR表征中遇到了这样的问题,对催化剂先进行H2-TPR,然后等降至室温后,再进行多次H2-TPR,发现依然存在还原峰,并且还原峰的面积大约为第一次面积的20%左右,连续进行了10次,还是存在还原峰,这是什么情况啊?催化剂在程序升温还原过程中应该是完全还原的,但是再还原时却还有还原峰,我有点不明白了,请各位高手指点啊~
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1楼
2013-12-16 13:12:52
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hjh19870106
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专业: 化学反应工程
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6楼
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Originally posted by
哈哈324
at 2013-12-16 23:11:22
你这明显是微量被氧化,应该是降温过程中,怀疑是气体中含有微量氧化性气体~~你懂的~tpr一直做,感觉这个从来就没有准过,。我一般都是作为定性参考粗略计算来评价催化剂~本人做储氧材料。
...
气体好像是纯度蛮高的,99.999%,但是我们的气体管路直接接到吸附仪上,没有经过干燥管,不晓得是不是微量的水引起的~
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9楼
2013-12-17 10:19:50
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qingfengyi01
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非文王木木: 金币+1, 感谢交流···欢迎常来
2013-12-16 16:45:59
用纯氢,并且做到更高的温度再试一次,如果相同的事情再次发生,就可以排除是你催化剂的原因;其次,考虑一下你的用的气体有没有问题;最后再排查你的设备本身的问题。
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2楼
2013-12-16 14:23:57
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hjh19870106
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2楼
:
Originally posted by
qingfengyi01
at 2013-12-16 14:23:57
用纯氢,并且做到更高的温度再试一次,如果相同的事情再次发生,就可以排除是你催化剂的原因;其次,考虑一下你的用的气体有没有问题;最后再排查你的设备本身的问题。
我用的还原气是10%H2/Ar混合气,温度升高也没有其他还原峰,所以不应该是催化剂没有完全还原的问题。气体的话我还真没有办法判断是否是有问题,我现在怀疑是不是在250度预处理过程中晶格氧迁移,导致活性组分的氧化。
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3楼
2013-12-16 15:22:48
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Grongheart
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jiangyun2: 金币+1, 谢谢回帖交流,欢迎常来~~
2013-12-17 12:13:53
你的原料10%H2/Ar混合气中可能存在痕量氧,这会导致样品的再次氧化。样品还原处理降温过程中所以的气体一定要脱水脱氧,避免样品的二次氧化
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4楼
2013-12-16 22:03:48
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