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铜-氧化铝的TPR还原峰温度变化的问题
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benmao_mogu
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铜-氧化铝的TPR还原峰温度变化的问题
小弟制备了一系列的Cu/γ-Al2O3催化剂(其中Cu的负载量分别为1%,3%和5%)结果发现当负载量增加时,CuO的还原峰较低温度的还原峰向更低的温度移动,这是为什么啊?是说明Cu与Al2O3载体之间的相互作用减弱么?还是??求大神指点~~谢谢~~
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不拼搏,怎能享受美好生活
1楼
2013-03-16 11:13:22
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铜虫
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2013-03-17 20:38:59
1 有没有XRD的结果
2 低负载量的CuO以非晶相存在,被氧化铝隔离,这种分散程度最大,CuO-Al2O3相互作用也最强。这是导致其难还原的原因。
你可以比较纯氧化铜的峰,如果峰温比负载的低,可以认为是相互作用变化的结果。
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2楼
2013-03-16 14:00:25
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liqian131
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专业: 污染控制化学
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2013-03-17 20:39:08
有可能是更多的负载的表面CuO被还原为Cu,H2溢流效应更加显著了
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3楼
2013-03-16 17:37:08
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zyhou
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2013-03-16 20:15:44
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2013-03-17 20:39:21
最好把图贴出来大家看看!
有可能是你说的问题。
铜与氧化铝的作用较强(这个还取决于你的焙烧温度),当负载量增加时,低温还原峰向低温移动应该可以归结为有体相氧化铜出现(即部分氧化铜与载体作用较弱)、或者说有大颗粒的氧化铜生成。
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4楼
2013-03-16 17:53:12
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luner1803
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4楼
:
Originally posted by
zyhou
at 2013-03-16 17:53:12
最好把图贴出来大家看看!
有可能是你说的问题。
铜与氧化铝的作用较强(这个还取决于你的焙烧温度),当负载量增加时,低温还原峰向低温移动应该可以归结为有体相氧化铜出现(即部分氧化铜与载体作用较弱)、或者 ...
同意这个看法。
载体与组分如果相互浸润,一开始的作用强,增加负载量,相互作用减弱。还原温度下降。
如果相互排斥的,一开始的作用弱,负载难以进行。增加负载量也不起作用,还原温度几乎不变。
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5楼
2014-02-28 16:59:55
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