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perfectmao

银虫 (小有名气)

[交流] MOS器件中，为什么生长HfO2用ALD,而不用MBE。

MOS器件中，为什么生长HfO2用ALD,而不用MBE。
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1楼 2012-07-14 20:49:14
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tangshi141

木虫 (正式写手)
★
perfectmao(金币+1): 谢谢参与
说说自己的看法 有问题还请大家指正 MBE均匀性是好 但是慢而且贵 又不是做材料开发 做半导体器件ALD的均匀性足够了
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11楼2012-07-14 22:37:45
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wu1008

金虫 (著名写手)
★
perfectmao(金币+1): 谢谢参与
没有人说不能用mbe吧
只是各个组在制备薄膜上都有自己的方法，有mbe的组不在做HfO2而以，也许只是他们有他们自己要关注的课题
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48楼2012-07-15 10:47:38
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wu1008

金虫 (著名写手)
★
perfectmao(金币+1): 谢谢参与
金币自动法？
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49楼2012-07-15 10:48:52
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yuanliu1work

金虫 (著名写手)
★
perfectmao(金币+1): 谢谢参与
引用回帖:
11楼: Originally posted by tangshi141 at 2012-07-14 23:37:45
说说自己的看法 有问题还请大家指正 MBE均匀性是好 但是慢而且贵 又不是做材料开发 做半导体器件ALD的均匀性足够了

价钱方面呢
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50楼2012-07-15 10:58:31
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等我的鱼2楼
2012-07-14 21:38   回复  
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等我的鱼3楼
2012-07-14 21:38   回复  
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goingabroad4楼
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AnnF7楼
2012-07-14 22:18   回复  
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spc089楼
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sesame_oil12楼
2012-07-14 22:43   回复  
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basai200414楼
2012-07-14 22:57   回复  
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贵
zhaowei356315楼
2012-07-14 23:09   回复  
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zhaowei356316楼
2012-07-14 23:09   回复  
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song_ge17楼
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song_ge18楼
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tangbohejin19楼
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JimWolverine20楼
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zhangjunlong21楼
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liu2004m24楼
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huijun043227楼
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xdkevin31楼
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jiaoww43楼
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a53167565744楼
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