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reggiehu

木虫 (正式写手)

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[求助] 射频磁控溅射ZAO陶瓷靶时遇到的一些问题

最近用ZnO,Al2O3粉末自己压制烧结了ZAO陶瓷靶，因为没有相应的条件，只在普通空气炉内烧结，烧结温度1100度。靶烧出来已经陶瓷化了，稍微用下就能发现上面有很多微小的空洞的。
问题来了：
1. 射频溅射，功率从80W到160W，只通Ar，基片玻璃（载玻片），镀出来的膜都不是透明的，呈淡黄色，明显的颜色较重，跟以前金属靶反应共溅射是的几乎透明完全不一样；膜侧看呈红色、绿色。为什么呢？氧化锌膜一般是透明的，几乎看不出颜色，我是要做透明膜，现在调节功率和气压（0.5-1.5Pa）都没有做出透明膜。
2. 以前用金属靶反应共溅射做ZAO膜，挡板上的膜很容易用砂纸擦掉（镀膜1h），而现在改用陶瓷靶后，每次清理都很困难，挡板上的膜很难擦（每次镀膜30min），而且预溅射处和挡板孔处的膜像彩虹一样，黄、绿、红圈交替出现的，基片上的膜也能看出这样的情况，这是为什么？是什么原因造成的？

欢迎回答，非常感谢！

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