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[交流] 【求助完毕】vasp-slab-边界附近原子顶位吸附小分子的结构优化很难收敛吗?

我的表面是p(3*3)大小的,在表面中间吸附、掺杂都能100步内收敛。但是在靠近边界的最表层原子顶位上的吸附(如吸附SO2)结构,力就很难收敛,都300多步了,而且能量在小数点后第三位上上下波动。

同样在边界附近去掉一个最表层原子(O),做一个空位结构,也能较快收敛。但同一系列的自洽计算(ISMEAR=0,SIGMA=0.05),scf的EENTRO~=.03。一般中间缺陷或者吸附结构在scf计算中第六电子步就是0.0000了。

问题:
(1)边界上的缺陷和吸附结构优化有什么要注意的呢?
(2)要增大表面大小,把边界外推,让吸附结构靠近表面中心?
(3)超胞结构优化(cell fixed)边界与表面中心的处理不一样吗?

[ Last edited by cenwanglai on 2011-4-25 at 20:13 ]
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引用回帖:
Originally posted by bingmou at 2010-12-13 21:09:26:
如果有图会比较容易理解,你的表面是周期边界条件的吗?边界是指在cell的边界处吗?
按我的理解,在边界处的计算应该和中心计算没有太多的区别,唯一可能的原因就是原子一离开cell就会做一个加法或减法回到cell, ...

是周期性边界条件。你完全明白了我的问题所在。

我的POTIM调到0.1了。是不是可以再调小一点?
3楼2010-12-14 09:10:04
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