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梁舟舟木虫 (小有名气)
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氢氟酸刻蚀硅片 已有2人参与
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求助各位大神，最近在做氢氟酸刻蚀硅片形成硅纳米阵列，不论将硅片浸泡在刻蚀液里多久都不能形成纳米线，请各位大神指教。现将具体方法写在下面 1 丙酮 乙醇和去离子水超声清洗硅片 2 浸泡在浓硫酸和过氧化氢3:1 的溶液中30min,去离子水清洗 3 浸泡在5%的HF溶液中30min 4 硅片取出浸泡在10%的HF溶液中，该溶液中加AgNO3(0.025M) 浸泡不同时间进行刻蚀 5 浸泡在10%的HF中超声清洗，然后水洗 所有的过程都是在室温下进行的，希望各位大神指点！！！ |
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金虫 (正式写手)
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3楼2017-04-02 21:08:09
涂涂涂涂
木虫 (小有名气)
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【答案】应助回帖
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梁舟舟: 金币+22, ★★★★★最佳答案, 谢谢我好好看一下 2017-03-24 20:33:27
梁舟舟: 金币+22, 我下载不了这篇专利 麻烦你发我一下好么？1804044884@qq.com 2017-03-27 08:45:08
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梁舟舟: 金币+22, ★★★★★最佳答案, 谢谢我好好看一下 2017-03-24 20:33:27
梁舟舟: 金币+22, 我下载不了这篇专利 麻烦你发我一下好么？1804044884@qq.com 2017-03-27 08:45:08
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第一：参考下这篇专利《丁士进, 朱宝. 一种制备高密度硅纳米孔阵列的方法:, CN 102290332 A[P]. 2011.》，应该对你有帮助 第二：你改变下条件，加热一下，温度50℃，HF5mol/L,AgNO3 0.02mol/L 二者体积比1：4，生长1h，应该能得到不错的硅纳米阵列的。 |
2楼2017-03-22 11:29:17
zwyzhwy
木虫 (正式写手)
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4楼2017-04-04 00:31:53