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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 学术讨论 » 氢氟酸的水溶液究竟是增加硅片的粗糙度，还是减少其粗糙度啊？
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lzb7758520

铁杆木虫 (著名写手)

[交流] 氢氟酸的水溶液究竟是增加硅片的粗糙度，还是减少其粗糙度啊？ 已有2人参与

我看到文献当中说20%的氢氟酸可以增加硅片的粗糙度，可是我也用氢氟酸去刻蚀硅片，经过AFM表征，并没有发现粗糙度增加啊？不知道氢氟酸的水溶液究竟是增加硅片的粗糙度，还是减少其粗糙度啊？
文献中及我都是用的P型（100）硅。
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梦想不能当饭吃啊
1楼 2011-06-13 20:56:15
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阿甘快跑

新虫 (初入文坛)
★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖
HF处理硅片，是为了去除表面SiO2等杂质。应该说，在一定程度上起到光滑的作用。但是随着处理时间的增加，应该效果会下降，即可以使粗糙度增加。

个人意见，仅供参考。
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上海的阿甘，微博里的@阿甘健康跑，各大跑步论坛的@阿甘快跑，全程马拉松310兔子
2楼2011-06-13 23:41:17
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lzb7758520

铁杆木虫 (著名写手)
引用回帖:
Originally posted by 阿甘快跑 at 2011-06-13 23:41:17:
HF处理硅片，是为了去除表面SiO2等杂质。应该说，在一定程度上起到光滑的作用。但是随着处理时间的增加，应该效果会下降，即可以使粗糙度增加。

个人意见，仅供参考。

我也是在小木虫咨询了一位做电化学腐蚀的，他的观点差不多。可能首先把氧化层腐蚀掉，起到抛光的作用，如果继续腐蚀可能导致粗糙度的增加。
谢谢众虫友啊！
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梦想不能当饭吃啊
3楼2011-06-14 10:47:19
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479967958

铜虫 (正式写手)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
请问
（100）（111）面有什么不同？ 怎么才能知道我用的硅片抛光面是（100）还是（111）？
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4楼2013-01-30 15:46:47
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