24小时热门版块排行榜

铁杆木虫 (著名写手)

[交流] 氢氟酸的水溶液究竟是增加硅片的粗糙度，还是减少其粗糙度啊？已有2人参与

我看到文献当中说20%的氢氟酸可以增加硅片的粗糙度，可是我也用氢氟酸去刻蚀硅片，经过AFM表征，并没有发现粗糙度增加啊？不知道氢氟酸的水溶液究竟是增加硅片的粗糙度，还是减少其粗糙度啊？
文献中及我都是用的P型（100）硅。

梦想不能当饭吃啊

1楼2011-06-13 20:56:15

铁杆木虫 (著名写手)

引用回帖:

Originally posted by 阿甘快跑 at 2011-06-13 23:41:17:
HF处理硅片，是为了去除表面SiO2等杂质。应该说，在一定程度上起到光滑的作用。但是随着处理时间的增加，应该效果会下降，即可以使粗糙度增加。

个人意见，仅供参考。

我也是在小木虫咨询了一位做电化学腐蚀的，他的观点差不多。可能首先把氧化层腐蚀掉，起到抛光的作用，如果继续腐蚀可能导致粗糙度的增加。
谢谢众虫友啊！

梦想不能当饭吃啊

3楼2011-06-14 10:47:19

相关版块跳转我要订阅楼主 lzb7758520 的主题更新