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lzb7758520

铁杆木虫 (著名写手)

[交流] 氢氟酸的水溶液究竟是增加硅片的粗糙度,还是减少其粗糙度啊? 已有2人参与

我看到文献当中说20%的氢氟酸可以增加硅片的粗糙度,可是我也用氢氟酸去刻蚀硅片,经过AFM表征,并没有发现粗糙度增加啊?不知道氢氟酸的水溶液究竟是增加硅片的粗糙度,还是减少其粗糙度啊?
文献中及我都是用的P型(100)硅。
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梦想不能当饭吃啊
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479967958

铜虫 (正式写手)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
请问
(100)(111)面有什么不同? 怎么才能知道我用的硅片抛光面是(100)还是(111)?
4楼2013-01-30 15:46:47
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阿甘快跑

新虫 (初入文坛)


小木虫(金币+0.5):给个红包,谢谢回帖
HF处理硅片,是为了去除表面SiO2等杂质。应该说,在一定程度上起到光滑的作用。但是随着处理时间的增加,应该效果会下降,即可以使粗糙度增加。

个人意见,仅供参考。
上海的阿甘,微博里的@阿甘健康跑,各大跑步论坛的@阿甘快跑,全程马拉松310兔子
2楼2011-06-13 23:41:17
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lzb7758520

铁杆木虫 (著名写手)

引用回帖:
Originally posted by 阿甘快跑 at 2011-06-13 23:41:17:
HF处理硅片,是为了去除表面SiO2等杂质。应该说,在一定程度上起到光滑的作用。但是随着处理时间的增加,应该效果会下降,即可以使粗糙度增加。

个人意见,仅供参考。

我也是在小木虫咨询了一位做电化学腐蚀的,他的观点差不多。可能首先把氧化层腐蚀掉,起到抛光的作用,如果继续腐蚀可能导致粗糙度的增加。
谢谢众虫友啊!
梦想不能当饭吃啊
3楼2011-06-14 10:47:19
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