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范少

银虫 (小有名气)


[交流] 想应用光刻和湿法刻蚀 作出有规则排列的纳米线,高手进!

实验室条件有限,所以只能用湿法刻蚀实现单晶硅纳米线,
初步:无序纳米线,是将洗好的硅片放到(一定浓度的)硝酸银和氢氟酸溶液里,硅片表面沉积一层Ag粒子,然后将样品放入到一定浓度的氢氟酸和双氧水溶液中,水浴50°2个小时,然后硝酸溶解Ag粒子,HF去除氧化物,SEM扫描看到排列密密麻麻的线体。
其次,对硅片进行光刻处理,处理前先在硅片表面热氧化一层二氧化硅,光刻完硅片表面形成一层直径5微米的圆孔(二氧化硅掩膜)圆孔是暴露的硅,其余是二氧化硅覆盖。
然后想应用初步操作湿法刻蚀出有序的纳米线,但是(失败了)(原因,氢氟酸将二氧化硅掩膜破坏掉)
最后,想问一下高手,我想用光刻加湿法刻蚀作出规则性排列的纳米线,能实现吗,现在准备买负性光刻胶,(硅片先热氧化)准备光刻完将样品放到TMAH溶液或者HF:HNO3:醋酸溶液中进行湿法刻蚀,这样做可行吗?在线等
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baowanrui110

铁杆木虫 (知名作家)



范少(金币+1): 谢谢参与
愿你幸福!!!
14楼2015-06-11 18:33:54
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xiaochong8693

木虫之王 (文坛精英)



范少(金币+1): 谢谢参与
为楼主留下满满的祝福
祝福楼主和各位虫友 一切顺利!
15楼2015-06-11 18:35:30
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2015-06-11 17:34   回复  
范少(金币+1): 谢谢参与
A
stl4093楼
2015-06-11 17:52   回复  
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syhorchid4楼
2015-06-11 17:53   回复  
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dmbb5楼
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laom20136楼
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jeangong7楼
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yangjh088楼
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tzynew9楼
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天涯201210楼
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shenrenren11楼
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youngen13楼
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Biotage16楼
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jianing11917楼
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于士辉18楼
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小虫199219楼
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Jameskelly21楼
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douguanqi22楼
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