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用CASTEP计算五氧化二钒的态密度图与文献用VASP计算得到的态密度不一样？？？ 已有2人参与
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请教 ：我用CASTEP计算的V2O5的态密度，与文献相差很多-就是峰没有那么尖锐，没那么多峰，是我自己在设置参数出错了吗？还是其它原因？ 文献用的是VASP ，GGA-PBE ,K为4X6X6，ECUT=500eV设置参数直接用文献的优化结果晶格常数误差很大，我GGA-PBE进行收敛测试得到K点为4x4x4,和ECUT为1270eV，优化后晶格常数c值误差有将近10%，后面用改变泛函为GGA-PBESOL.优化后晶格常数与实验值比较接近。进行计算的结果图所示：  V2O5-CASTEP.png  V2O5-VASP.png |
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12楼2015-01-17 17:59:44
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KalaShayminS前辈说的有些道理，我当时也没注意，右侧少个峰有可能是“能级不够多”，可以计算能带结构的时候加些空带数目，默认12肯定不够，到了6eV是电子态直接“掉下去”了。 峰值高低除了赝势或PAW的价电子组态不同，也有可能是你采用PBEsol和PBE不同造成的，目前尚不确定，一定要找出原因可以对照两者价电子组态看看有多大差异。展宽很大的时候电子态弥散开来，所以大的展宽的DOS不怎么好看。 我忘记了6.0能不能做DFTD，如果不能也就只有这样了，能+D的话对于VDW结合的方向的晶格常数会有些改善。可以加上个U看看会不会改善能带的结果，U值怎么取合理就得再想办法了。 |
15楼2015-01-18 08:15:46
tsglss
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2楼2015-01-15 22:57:41
谢谢您的回复！我就是在疑惑是不是我的计算有误导致数据不对，所以峰没那么多，也没那么尖锐，还是因为所以软件不同造成的...... 望具体指点，谢谢！ 3楼2015-01-16 09:27:03
4楼2015-01-16 10:30:28
谢谢指点！可文献的也是展宽的，我用Origin画图的横坐标设置与文献一样，如果是绘图设置的问题那我又应该怎样设置呢？（呵呵 Origin不是很熟悉使用）再问一个比较二的问题，我这个图要是写进文章里能用么？5楼2015-01-16 12:01:50
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不是绘图软件（数据处理软件Origin照成的）看一下计算使用的smearing和性质中的smearing是不是都太大了，这个smearing就是展宽。计算的时候smearing过大可能也会造成结果不可靠，该取多少最好由测试决定。 晶格常数不同有可能是赝势导致的，或是其他一些细节引起的，这个问题暂时不得而知。你做的是层状结构吧，也许考虑GrimmeD有可能有好的结果。 |
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xiejiancqu6楼2015-01-16 23:51:09
7楼2015-01-17 09:50:41
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9楼2015-01-17 12:41:02
不是很明白，麻烦您再指点一下，万分感谢！
10楼2015-01-17 16:37:13