| 查看: 1586 | 回复: 3 | |||
[交流]
化学放大负性光刻胶去胶难 已有3人参与
|
最近尝试做一款化学放大负性光刻胶，形貌做的很好，但是发现很难去胶，去胶液是市面上通用的prs3000,总是留下胶丝不溶解，酚醛树脂体系交联剂用的是HMMM，降低交联剂的含量到很低还是溶解不掉，有没有大神能指点一下，在线等 |
回复此楼» 猜你喜欢
土木水利专硕276分求调剂
已经有9人回复
-
328求调剂
已经有16人回复
-
化学工程调剂289
已经有26人回复
-
331求调剂
已经有3人回复
-
材料与化工专硕306分找合适调剂
已经有24人回复
-
材料工程调剂
已经有8人回复
-
070300化学279求调剂
已经有7人回复
-
材料专硕调剂
已经有14人回复
-
334求调剂
已经有7人回复
-
材料工程085601，270求调剂
已经有10人回复
» 本主题相关价值贴推荐，对您同样有帮助:
- ICP刻蚀光刻负胶SU-8
已经有5人回复
- 求助光学曝光工艺，详细的，最后必须很好的剥离
已经有9人回复
- 实验室中常用的正性紫外光刻胶都有哪些？
已经有13人回复
- 光刻胶和激光器的选择
已经有10人回复
- 台式扫描电镜哪个好？
已经有36人回复
- 如何得到大厚度均匀性好的光刻胶掩膜
已经有6人回复
- SU-8负性光刻 溶剂
已经有12人回复
- 大日本印刷开发出用玻璃基板卷对卷制造彩色滤光片的工艺
已经有14人回复
yswyx 
专家顾问 (著名写手)
-
专家经验: +651 - 应助: 807 (博后)
- 贵宾: 0.204
- 金币: 2618.9
- 散金: 6018
- 红花: 112
- 帖子: 2705
- 在线: 577.8小时
- 虫号: 446878
- 注册: 2007-10-30
- 性别: GG
- 专业: 半导体微纳机电器件与系统
- 管辖: 微米和纳米
2楼2015-01-07 18:47:49
3楼2016-09-10 16:01:35
阡_陌
新虫 (小有名气)
- 应助: 0 (幼儿园)
- 金币: 582.1
- 散金: 56
- 帖子: 124
- 在线: 39小时
- 虫号: 5156652
- 注册: 2016-10-24
- 性别: GG
- 专业: 功能与智能高分子
4楼2016-10-27 00:28:06
