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hjzero12

新虫 (初入文坛)

[交流] 化学放大负性光刻胶去胶难 已有3人参与

最近尝试做一款化学放大负性光刻胶,形貌做的很好,但是发现很难去胶,去胶液是市面上通用的prs3000,总是留下胶丝不溶解,酚醛树脂体系交联剂用的是HMMM,降低交联剂的含量到很低还是溶解不掉,有没有大神能指点一下,在线等
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yswyx

专家顾问 (著名写手)



小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
市面上很少有人用PRS3000,这家在电子材料领域也就做点试剂,还很少有人用。
建议直接用NMP试试,各种去胶剂大部分都是NMP基础上加表面活性剂之类的东西。实在不行就试试asher,如果能够灰化,也可以,只是应用面小了些。
你做这款胶是要商业化吗?很少遇到做光刻胶的人,我们专业做光刻的,有兴趣可以站内联系一下。
2楼2015-01-07 18:47:49
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苏hzr

银虫 (小有名气)


小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
我也是做光刻胶的,最近做负胶,膜厚在10um以上,分辨率太差,想往化学放大负性光刻胶试试,但是对这方面一点不了解,请问您现在做的怎么样了,能交流一下吗?
多少事,从来急,天地转,光阴迫,一万年太久,只争朝夕
3楼2016-09-10 16:01:35
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阡_陌

新虫 (小有名气)


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引用回帖:
3楼: Originally posted by 苏hzr at 2016-09-10 16:01:35
我也是做光刻胶的,最近做负胶,膜厚在10um以上,分辨率太差,想往化学放大负性光刻胶试试,但是对这方面一点不了解,请问您现在做的怎么样了,能交流一下吗?

我也在做这个可以交流一下。

发自小木虫Android客户端
4楼2016-10-27 00:28:06
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