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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 功能材料 » 半导体 » 化学放大负性光刻胶去胶难
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hjzero12

新虫 (初入文坛)

[交流] 化学放大负性光刻胶去胶难 已有3人参与

最近尝试做一款化学放大负性光刻胶，形貌做的很好，但是发现很难去胶，去胶液是市面上通用的prs3000,总是留下胶丝不溶解，酚醛树脂体系交联剂用的是HMMM，降低交联剂的含量到很低还是溶解不掉，有没有大神能指点一下，在线等
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1楼 2015-01-04 16:32:06
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yswyx

专家顾问 (著名写手)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
市面上很少有人用PRS3000，这家在电子材料领域也就做点试剂，还很少有人用。
建议直接用NMP试试，各种去胶剂大部分都是NMP基础上加表面活性剂之类的东西。实在不行就试试asher，如果能够灰化，也可以，只是应用面小了些。
你做这款胶是要商业化吗？很少遇到做光刻胶的人，我们专业做光刻的，有兴趣可以站内联系一下。
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2楼2015-01-07 18:47:49
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苏hzr

银虫 (小有名气)
★
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我也是做光刻胶的，最近做负胶，膜厚在10um以上，分辨率太差，想往化学放大负性光刻胶试试，但是对这方面一点不了解，请问您现在做的怎么样了，能交流一下吗？
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多少事，从来急，天地转，光阴迫，一万年太久，只争朝夕
3楼2016-09-10 16:01:35
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阡_陌

新虫 (小有名气)
★
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引用回帖:
3楼: Originally posted by 苏hzr at 2016-09-10 16:01:35
我也是做光刻胶的，最近做负胶，膜厚在10um以上，分辨率太差，想往化学放大负性光刻胶试试，但是对这方面一点不了解，请问您现在做的怎么样了，能交流一下吗？

我也在做这个可以交流一下。

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4楼2016-10-27 00:28:06
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