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文盲森森新虫 (正式写手)
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[求助]
求助光学曝光工艺，详细的，最后必须很好的剥离 已有3人参与
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本人在剥离光刻胶时遇到了难题，实验室用的是苏州瑞红的RFJ—220负性光刻胶，剥离液是瑞红RBL—2304，请问应该在匀胶机上选用多少转数，在热板上用多少度加热多长时间，曝光时间多长适宜（我目前用110度90秒4000转每分曝光七秒），然后在显影定影后的基片上至少镀上多厚的镀层，最后也是最让我头疼的，如何去胶，网上有人说先将剥离液加热到120度再自然冷却到80恒温剥离，但是却没有说明时间，而且我在这个温度下剥离的也不太干净，现在只好求好心人大发慈悲不吝赐教 [ 发自手机版 http://muchong.com/3g ] |
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 导电物 |
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spiderman504
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【答案】应助回帖
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转速是根据你的胶厚确定的（胶厚又是根据你的选择比来定的，胶厚：金属层，胶厚是一定要大于金属层厚度的。）。 热板传热还比较快，但说明书上的温度不是实际烘烤时的温度，额个人经验，实验时应该在原来基础上加个20度，时间加上20s ,曝光量量也加个20mJ/cm2.显影时间加30s左右，以显影干净为准。（一定要不停晃动片子，不然胶虽然溶解了但始终在片子中央散不开，还会影响你的线宽。完后去离子水冲洗，N2吹干。）。 可先拿个片子不蒸镀金属，试一试，看显影效果怎么样？ 用剥离液剥离是需要加热的，没错。如果嫌麻烦不妨试试先丙酮后乙醇超声，完后去离子水，N2吹干（只要你片子干净，显影干净，蒸镀金属质量好（先慢再快），你会发现强力吹风十分给力，金属哗哗往下掉）。超声时间不好说，与你的片子表面处理有关，选择比有关。一般的各20分钟就差不多了，长的就30分钟以上了。 |
2楼2014-05-31 08:43:27
文盲森森
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6楼2014-06-01 16:33:08
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7楼2014-06-03 12:33:08
8楼2014-10-08 17:13:17
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9楼2014-10-08 22:56:06
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