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文盲森森新虫 (正式写手)
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[求助]
求助光学曝光工艺，详细的，最后必须很好的剥离已有3人参与
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本人在剥离光刻胶时遇到了难题，实验室用的是苏州瑞红的RFJ—220负性光刻胶，剥离液是瑞红RBL—2304，请问应该在匀胶机上选用多少转数，在热板上用多少度加热多长时间，曝光时间多长适宜（我目前用110度90秒4000转每分曝光七秒），然后在显影定影后的基片上至少镀上多厚的镀层，最后也是最让我头疼的，如何去胶，网上有人说先将剥离液加热到120度再自然冷却到80恒温剥离，但是却没有说明时间，而且我在这个温度下剥离的也不太干净，现在只好求好心人大发慈悲不吝赐教 [ 发自手机版 http://muchong.com/3g ] |
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8楼2014-10-08 17:13:17