| 查看: 2507 | 回复: 9 | ||
| 当前只显示满足指定条件的回帖，点击这里查看本话题的所有回帖 | ||
文盲森森新虫 (正式写手)
|
[求助]
求助光学曝光工艺，详细的，最后必须很好的剥离已有3人参与
|
|
|
本人在剥离光刻胶时遇到了难题，实验室用的是苏州瑞红的RFJ—220负性光刻胶，剥离液是瑞红RBL—2304，请问应该在匀胶机上选用多少转数，在热板上用多少度加热多长时间，曝光时间多长适宜（我目前用110度90秒4000转每分曝光七秒），然后在显影定影后的基片上至少镀上多厚的镀层，最后也是最让我头疼的，如何去胶，网上有人说先将剥离液加热到120度再自然冷却到80恒温剥离，但是却没有说明时间，而且我在这个温度下剥离的也不太干净，现在只好求好心人大发慈悲不吝赐教 [ 发自手机版 http://muchong.com/3g ] |
回复此楼
文盲森森
新虫 (正式写手)
- 应助: 0 (幼儿园)
- 金币: 2855.3
- 散金: 100
- 红花: 1
- 帖子: 589
- 在线: 45.2小时
- 虫号: 2091672
- 注册: 2012-10-28
- 专业: 力学中的基本问题和方法
3楼2014-05-31 09:05:19