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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 求助SU-8为什么大面积脱落
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笨圈圈77

新虫 (初入文坛)

[求助] 求助SU-8为什么大面积脱落 已有6人参与

最近做SU-8发生大面积脱落显现。以前是在硅基板上做一些小结构，SU-8 曝光显影后基板呈现的是小结构。但是最近在硅基板上做的是大面积结构，显影后微小结构去除。但是当曝光后的su-8 基板放入显影液中，SU-8 就开始大面积脱落。希望各位大侠帮我解决一下。非常感谢！
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1楼 2013-12-10 14:45:00
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回帖支持 ( 显示支持度最高的前 50 名 )

babyoflion

金虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
大面积脱落的问题主要有一下几点，希望对你有帮助：第一、基底不干净或者空气湿度大 第二，显影方式不对 第三 显影液不合适！ 你这说的连工艺参数和流程都没说，别人怎么给你分析呢？ 工艺参数至少要给，而且显影液用的哪种的？
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6楼2013-12-11 13:45:36
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superhamlet

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
我倒觉得可能是曝光时间不足。导致这种后胶上宽下窄，底部出现“根切”，显影时容易脱落。我也做过很长时间的SU8，遇到过很多问题。
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14楼2013-12-12 19:35:45
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superhamlet

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

不好意思，刚才没看到后面的答案就回复了。楼主检查过用的硅片的质量了吗？我用过同样的参数，不同的两批硅片，结果一种做的很好，一种就是前烘完就起气泡。
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15楼2013-12-12 19:40:54
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c_kDr

金虫 (小有名气)
引用回帖:
12楼: Originally posted by 笨圈圈77 at 2013-12-12 15:10:18
曝光问题我已经试过了。从16S一直到200多S我都用过了。不是这个原因。曝光度也测了。不是这个原因。我看一些文献怀疑过这个问题。但是同样的厚度，小面积的就不掉，只有大面积的会掉的很严重。...

是一次性曝光还是分步来曝光的呢，一次性的话也容易出现脱落现象的呢
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16楼2013-12-12 21:24:18
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zhanjiang

木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
Su8胶不能用Hdms增粘，说明书里应该提到了。其实大面积脱落主要是基底清洗的问题，或者是没有烘干，或者是曝光时间的问题。我原来也遇到过，你用双氧水加浓硫酸这种方法清洗，基底要完全烘干并冷却后才能匀胶。

[ 发自小木虫客户端 ]
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17楼2013-12-12 21:33:30
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普通回帖

reninhat

铁杆木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
用一下HDMS试一下。大面积SU8脱落，比较大的可能性是SU8曝光交联时产生了大量的应力，应力超过了表面粘附力就脱落了。小面积时应力不显著而已。
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2楼2013-12-10 15:45:24
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zhaoyuan0426

至尊木虫 (著名写手)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
胶与基地粘附性不好，基片处理了吗？或者可以考虑使用增附剂，增加粘附性，用来抵抗应力
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3楼2013-12-10 20:36:35
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笨圈圈77

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
3楼: Originally posted by zhaoyuan0426 at 2013-12-10 20:36:35
胶与基地粘附性不好，基片处理了吗？或者可以考虑使用增附剂，增加粘附性，用来抵抗应力

麻烦问一下，什么样的增附剂呢？我用丙酮、甲醇分别超声了20分钟，然后用超纯水清洗。最后用紫外臭氧，还是哗啦哗啦掉没了。
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4楼2013-12-11 08:20:36
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zhaoyuan0426

至尊木虫 (著名写手)
引用回帖:
4楼: Originally posted by 笨圈圈77 at 2013-12-11 08:20:36
麻烦问一下，什么样的增附剂呢？我用丙酮、甲醇分别超声了20分钟，然后用超纯水清洗。最后用紫外臭氧，还是哗啦哗啦掉没了。...

我建议先用浓硫酸+双氧水煮一下，因为我曾经用过SU-8不过我的基片是玻璃，我用超声洗，做完结构显影都没有了，后来用浓硫酸+双氧水煮过的，效果就好一点。增附剂我觉得效果最好，我们实验室用的是老板从日本带回来的，KH570，不知道国内有没有卖的
http://baike.baidu.com/link?url= ... DFAb1XkVj2Si2lJLvL_
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5楼2013-12-11 09:53:48
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笨圈圈77

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
5楼: Originally posted by zhaoyuan0426 at 2013-12-11 09:53:48
我建议先用浓硫酸+双氧水煮一下，因为我曾经用过SU-8不过我的基片是玻璃，我用超声洗，做完结构显影都没有了，后来用浓硫酸+双氧水煮过的，效果就好一点。增附剂我觉得效果最好，我们实验室用的是老板从日本带回来 ...

恩恩，谢谢。我会试一下。你做的也是那种暴完光大面积的SU-8都在基板上的那种么？我的mask上，只有几条线是Cr。
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7楼2013-12-11 19:46:13
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笨圈圈77

新虫 (初入文坛)
引用回帖:
6楼: Originally posted by babyoflion at 2013-12-11 13:45:36
大面积脱落的问题主要有一下几点，希望对你有帮助：第一、基底不干净或者空气湿度大 第二，显影方式不对 第三 显影液不合适！ 你这说的连工艺参数和流程都没说，别人怎么给你分析呢？ 工艺参数至少要给，而且显影液 ...

空气湿度肯定不大。我已经用了紫外臭氧了。显影液是MICRO-CHEM原厂的显影液。我不知道您说的显影方式指的什么？至于工艺参数，我用的就是micro chem data sheet里的工艺参数。
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8楼2013-12-11 19:50:05
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babyoflion

金虫 (著名写手)
引用回帖:
8楼: Originally posted by 笨圈圈77 at 2013-12-11 19:50:05
空气湿度肯定不大。我已经用了紫外臭氧了。显影液是MICRO-CHEM原厂的显影液。我不知道您说的显影方式指的什么？至于工艺参数，我用的就是micro chem data sheet里的工艺参数。...

据我说知，比如有些人说的超声显影适合于极个别的情况，大多数情况都会脱落！有时候不要尽信书，还是要根据调整的！我原来用的标准的显影液也显掉的，但是换成丙酮+ 异丙醇显影的时候就没掉
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9楼2013-12-12 08:26:23
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c_kDr

金虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

感谢参与，应助指数 +1
是不是过度曝光的问题，过度曝光胶会出现分页现象从而脱落，而且曝光时间和强度也依赖于底层结构，如果在介质物表面铺胶应该适当增加曝光时间，如果在金属表面铺胶则应该适当缩短曝光时间。
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10楼2013-12-12 08:34:01
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