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求助SU-8为什么大面积脱落
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求助SU-8为什么大面积脱落
已有6人参与
最近做SU-8发生大面积脱落显现。以前是在硅基板上做一些小结构,SU-8 曝光显影后基板呈现的是小结构。但是最近在硅基板上做的是大面积结构,显影后微小结构去除。但是当曝光后的su-8 基板放入显影液中,SU-8 就开始大面积脱落。希望各位大侠帮我解决一下。非常感谢!
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1楼
2013-12-10 14:45:00
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6楼
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Originally posted by
babyoflion
at 2013-12-11 13:45:36
大面积脱落的问题主要有一下几点,希望对你有帮助:第一、基底不干净或者空气湿度大 第二,显影方式不对 第三 显影液不合适! 你这说的连工艺参数和流程都没说,别人怎么给你分析呢? 工艺参数至少要给,而且显影液 ...
空气湿度肯定不大。我已经用了紫外臭氧了。显影液是MICRO-CHEM原厂的显影液。我不知道您说的显影方式指的什么?至于工艺参数,我用的就是micro chem data sheet里的工艺参数。
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8楼
2013-12-11 19:50:05
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reninhat
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用一下HDMS试一下。大面积SU8脱落,比较大的可能性是SU8曝光交联时产生了大量的应力,应力超过了表面粘附力就脱落了。小面积时应力不显著而已。
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2楼
2013-12-10 15:45:24
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【答案】应助回帖
感谢参与,应助指数 +1
胶与基地粘附性不好,基片处理了吗?或者可以考虑使用增附剂,增加粘附性,用来抵抗应力
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3楼
2013-12-10 20:36:35
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3楼
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Originally posted by
zhaoyuan0426
at 2013-12-10 20:36:35
胶与基地粘附性不好,基片处理了吗?或者可以考虑使用增附剂,增加粘附性,用来抵抗应力
麻烦问一下,什么样的增附剂呢?我用丙酮、甲醇分别超声了20分钟,然后用超纯水清洗。最后用紫外臭氧,还是哗啦哗啦掉没了。
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4楼
2013-12-11 08:20:36
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