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北京石油化工学院2026年研究生招生接收调剂公告
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drgonwang

铁杆木虫 (小有名气)

[求助] PECVD沉积SiO2

在P型硅晶面参数是100,wafer表面沉积SiO2,沉积的厚度在15nm左右,使用的是OXFORD 100,使用标准工艺是60nm/min。减少沉积时间但是也得不到需要厚度。不知道各位大侠有啥好建议?
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yswyx

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【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
换recipe,把沉积速度降到10nm/min。
这个厚度,国产设备照样做的好好的。

» 本帖已获得的红花(最新10朵)

2楼2013-12-04 11:30:01
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drgonwang

铁杆木虫 (小有名气)

送红花一朵
引用回帖:
2楼: Originally posted by yswyx at 2013-12-04 11:30:01
换recipe,把沉积速度降到10nm/min。
这个厚度,国产设备照样做的好好的。

您方便给我点参数上的建议吗?小弟刚接手工艺不久,有点蒙,还希望多多指点。
3楼2013-12-04 12:30:47
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