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氩气用于等离子刻蚀、等离子清洗,离子束刻蚀的比较
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hello_Jzz
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帖子: 226
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虫号: 1321426
[交流]
氩气用于等离子刻蚀、等离子清洗,离子束刻蚀的比较
我想各位同志一定用过等离子刻蚀、等离子清洗和离子束刻蚀,或者其中的某一个,这三个仪器都可以用氩气作为气体源。所以,我很想知道,这三个有什么区别,都各自用在什么地方,怎么更好的利用这三个仪器。
请走过路过的朋友们都说说自己用的仪器以及对仪器的认识哈。
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1楼
2013-06-03 10:47:32
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★
hello_Jzz(金币+1): 谢谢参与
文字游戏而已,本质都是氩离子轰击材料表面,别被绕进去了!
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2楼
2013-06-04 01:54:23
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3楼
:
Originally posted by
hello_Jzz
at 2013-06-04 03:33:12
但三者总应该有区别吧,
我看到过有说法是:离子束刻蚀是物理方法,反应离子刻蚀是化学方法。...
就是,如楼上所言,你原帖中并未提及反应离子刻蚀!
物理方法还是化学方法取决于你所用的气体源与被轰击的样品表面是否存在化学反应,如果你的气体源,如原帖中提到的Ar是属于惰性气体,一般不会跟其他元素有化学反应,所以一般都是纯物理过程。而当你气体源选择活性气体,如你用氢气作为起源去轰击碳材料,那么就有化学反应生成碳氢化合物,而并非纯粹的物理过程。
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5楼
2013-06-07 01:48:47
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7楼
:
Originally posted by
hello_Jzz
at 2013-06-07 05:50:50
各位回答的都很好,我也自己去调研了一下,得到了如下的结论,和大家一起分享。
一般的刻蚀方法有:反应离子刻蚀RIE,等离子体清洗、刻蚀PE,离子束刻蚀IBE。反应离子刻蚀,顾名思义,就是利用活性气体通过四个过 ...
总结的不错,慢慢深入吧,因为路还长着呢。。。
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8楼
2013-06-07 14:02:06
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10楼
:
Originally posted by
陈洁涵
at 2014-04-18 08:07:31
请问离子束镀膜里的离子束和等离子体主要区别是什么?...
离子束一半只含带正电荷的氩离子,而氩等离子体则还包含电子,等离子体整体对外显电中性!
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11楼
2014-04-18 19:30:14
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12楼
:
Originally posted by
陈洁涵
at 2014-04-19 03:17:57
那请问您了解表面改性处理这方面吗?我看到过低温等离子处理柔性聚合物基底,可是条件限制不方便,如果用离子束处理效果差别会很大嘛?是不是活性较低?...
不好意思,前面对氩等离子体我没有提及一些亚稳态的原子以及一些活性粒子,这些在离子束里面应该是没有或者浓度很低的,因为离子束的激发能量一般都是取定的。
对于柔性聚合物基底,用氩等离子体处理可能会改变表面一些物理特性,如吸水性(可通过测量处理前后的水滴张角来比较)等。但如果用离子束,我想效果肯定会查,因为这里主要是氩离子,如果你加一点能量,那么直接将你的聚合物溅射刻蚀掉了
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13楼
2014-04-19 17:45:20
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