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hello_Jzz

银虫 (小有名气)


[交流] 氩气用于等离子刻蚀、等离子清洗,离子束刻蚀的比较

我想各位同志一定用过等离子刻蚀、等离子清洗和离子束刻蚀,或者其中的某一个,这三个仪器都可以用氩气作为气体源。所以,我很想知道,这三个有什么区别,都各自用在什么地方,怎么更好的利用这三个仪器。
请走过路过的朋友们都说说自己用的仪器以及对仪器的认识哈。
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引用回帖:
7楼: Originally posted by hello_Jzz at 2013-06-07 05:50:50
各位回答的都很好,我也自己去调研了一下,得到了如下的结论,和大家一起分享。
一般的刻蚀方法有:反应离子刻蚀RIE,等离子体清洗、刻蚀PE,离子束刻蚀IBE。反应离子刻蚀,顾名思义,就是利用活性气体通过四个过 ...

总结的不错,慢慢深入吧,因为路还长着呢。。。
8楼2013-06-07 14:02:06
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查看全部 17 个回答

hello_Jzz(金币+1): 谢谢参与
文字游戏而已,本质都是氩离子轰击材料表面,别被绕进去了!
2楼2013-06-04 01:54:23
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hello_Jzz

银虫 (小有名气)


引用回帖:
2楼: Originally posted by leongoall at 2013-06-04 01:54:23
文字游戏而已,本质都是氩离子轰击材料表面,别被绕进去了!

但三者总应该有区别吧,
我看到过有说法是:离子束刻蚀是物理方法,反应离子刻蚀是化学方法。
3楼2013-06-04 10:33:12
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lukegan

禁虫 (初入文坛)


hello_Jzz(金币+1): 谢谢参与
本帖内容被屏蔽

4楼2013-06-06 10:52:01
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