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hello_Jzz

银虫 (小有名气)


[交流] 氩气用于等离子刻蚀、等离子清洗,离子束刻蚀的比较

我想各位同志一定用过等离子刻蚀、等离子清洗和离子束刻蚀,或者其中的某一个,这三个仪器都可以用氩气作为气体源。所以,我很想知道,这三个有什么区别,都各自用在什么地方,怎么更好的利用这三个仪器。
请走过路过的朋友们都说说自己用的仪器以及对仪器的认识哈。
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hello_Jzz

银虫 (小有名气)


引用回帖:
6楼: Originally posted by 季岩冰 at 2013-06-07 11:43:01
等离子体刻蚀根据工作气体成分与样品是否作用分为物理溅射刻蚀,化学反应刻蚀和离子辅助刻蚀三类,由于你用的氩气为惰性气体,难以与其他材料发生反应,因此主要是一种物理溅射刻蚀,高能离子或者原子与样品表面碰撞 ...

各位回答的都很好,我也自己去调研了一下,得到了如下的结论,和大家一起分享。
一般的刻蚀方法有:反应离子刻蚀RIE,等离子体清洗、刻蚀PE,离子束刻蚀IBE。反应离子刻蚀,顾名思义,就是利用活性气体通过四个过程进行样品表面加工,物理溅射、离子反应、产生自由基、自由基反应。所以RIE可以简单的归纳为离子轰击辅助的化学反应过程。主要控制的参量有反应气体流速、放电功率、反应室气压、样品材料表面温度等。
等离子体清洗、刻蚀Plasma Etching,主要是化学刻蚀,因为样品是放在阳极表面的,而清洗和刻蚀的区别,主要是看阳极板的大小,阳极板大的,用于清洗,阳极板小的用于刻蚀;参数桐RIE类似。
最后的离子束刻蚀是一个纯粹的物理刻蚀过程,一般的气体源都是惰性气体,就是用惰性离子去轰击样品表面,值得注意的是,IBE对金属、光刻胶等的刻蚀速率都很高。不过适当选择离子能量和束流还是可以得到期望的结果的。
7楼2013-06-07 12:50:50
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查看全部 17 个回答

hello_Jzz(金币+1): 谢谢参与
文字游戏而已,本质都是氩离子轰击材料表面,别被绕进去了!
2楼2013-06-04 01:54:23
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hello_Jzz

银虫 (小有名气)


引用回帖:
2楼: Originally posted by leongoall at 2013-06-04 01:54:23
文字游戏而已,本质都是氩离子轰击材料表面,别被绕进去了!

但三者总应该有区别吧,
我看到过有说法是:离子束刻蚀是物理方法,反应离子刻蚀是化学方法。
3楼2013-06-04 10:33:12
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lukegan

禁虫 (初入文坛)


hello_Jzz(金币+1): 谢谢参与
本帖内容被屏蔽

4楼2013-06-06 10:52:01
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