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hello_Jzz

银虫 (小有名气)


[交流] 氩气用于等离子刻蚀、等离子清洗,离子束刻蚀的比较

我想各位同志一定用过等离子刻蚀、等离子清洗和离子束刻蚀,或者其中的某一个,这三个仪器都可以用氩气作为气体源。所以,我很想知道,这三个有什么区别,都各自用在什么地方,怎么更好的利用这三个仪器。
请走过路过的朋友们都说说自己用的仪器以及对仪器的认识哈。
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季岩冰

至尊木虫 (正式写手)



hello_Jzz(金币+1): 谢谢参与
等离子体刻蚀根据工作气体成分与样品是否作用分为物理溅射刻蚀,化学反应刻蚀和离子辅助刻蚀三类,由于你用的氩气为惰性气体,难以与其他材料发生反应,因此主要是一种物理溅射刻蚀,高能离子或者原子与样品表面碰撞,样品表面结构将会被破坏,样品材料的原子将会从样品表面脱附离开。等离子体刻蚀主要用于抛光或者图形化,这个主要利用的是等离子体中的离子或者一些活性基团,对材料的作用具有一定深度。一般的,抛光的话,对粒子的能量和密度要求可能相对较高,而图形化则相对较低,但是其对粒子的能量和密度的控制要求可能更高,这个得看具体的材料,如金刚石膜的图形化与硅片的图形化就不一样。
等离子体清洗的话,主要是通过等离子体处理样品的表面,这个作用程度相对要弱一点,对粒子的能量和密度要求相对不是很高,主要是为了清理样品表面的污染物或者吸附的其他杂质。
而离子束刻蚀的话,其实很多离子源都是基于等离子体源开发出来的,所以很多文献都将两者混同,只不过每个人的叫法不同而已,刻蚀对象大部分相同。
6楼2013-06-07 11:43:01
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hello_Jzz(金币+1): 谢谢参与
文字游戏而已,本质都是氩离子轰击材料表面,别被绕进去了!
2楼2013-06-04 01:54:23
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hello_Jzz

银虫 (小有名气)


引用回帖:
2楼: Originally posted by leongoall at 2013-06-04 01:54:23
文字游戏而已,本质都是氩离子轰击材料表面,别被绕进去了!

但三者总应该有区别吧,
我看到过有说法是:离子束刻蚀是物理方法,反应离子刻蚀是化学方法。
3楼2013-06-04 10:33:12
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lukegan

禁虫 (初入文坛)


hello_Jzz(金币+1): 谢谢参与
本帖内容被屏蔽

4楼2013-06-06 10:52:01
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