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氩气用于等离子刻蚀、等离子清洗,离子束刻蚀的比较
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hello_Jzz
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[交流]
氩气用于等离子刻蚀、等离子清洗,离子束刻蚀的比较
我想各位同志一定用过等离子刻蚀、等离子清洗和离子束刻蚀,或者其中的某一个,这三个仪器都可以用氩气作为气体源。所以,我很想知道,这三个有什么区别,都各自用在什么地方,怎么更好的利用这三个仪器。
请走过路过的朋友们都说说自己用的仪器以及对仪器的认识哈。
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2013-06-03 10:47:32
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12楼
:
Originally posted by
陈洁涵
at 2014-04-19 03:17:57
那请问您了解表面改性处理这方面吗?我看到过低温等离子处理柔性聚合物基底,可是条件限制不方便,如果用离子束处理效果差别会很大嘛?是不是活性较低?...
不好意思,前面对氩等离子体我没有提及一些亚稳态的原子以及一些活性粒子,这些在离子束里面应该是没有或者浓度很低的,因为离子束的激发能量一般都是取定的。
对于柔性聚合物基底,用氩等离子体处理可能会改变表面一些物理特性,如吸水性(可通过测量处理前后的水滴张角来比较)等。但如果用离子束,我想效果肯定会查,因为这里主要是氩离子,如果你加一点能量,那么直接将你的聚合物溅射刻蚀掉了
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13楼
2014-04-19 17:45:20
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hello_Jzz(金币+1): 谢谢参与
文字游戏而已,本质都是氩离子轰击材料表面,别被绕进去了!
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2楼
2013-06-04 01:54:23
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2楼
:
Originally posted by
leongoall
at 2013-06-04 01:54:23
文字游戏而已,本质都是氩离子轰击材料表面,别被绕进去了!
但三者总应该有区别吧,
我看到过有说法是:离子束刻蚀是物理方法,反应离子刻蚀是化学方法。
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3楼
2013-06-04 10:33:12
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lukegan
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hello_Jzz(金币+1): 谢谢参与
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4楼
2013-06-06 10:52:01
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