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hello_Jzz

银虫 (小有名气)

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[交流] 氩气用于等离子刻蚀、等离子清洗，离子束刻蚀的比较

我想各位同志一定用过等离子刻蚀、等离子清洗和离子束刻蚀，或者其中的某一个，这三个仪器都可以用氩气作为气体源。所以，我很想知道，这三个有什么区别，都各自用在什么地方，怎么更好的利用这三个仪器。
请走过路过的朋友们都说说自己用的仪器以及对仪器的认识哈。

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1楼 2013-06-03 10:47:32

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leongoall

专家顾问 (知名作家)

引用回帖:

3楼: Originally posted by hello_Jzz at 2013-06-04 03:33:12
但三者总应该有区别吧，
我看到过有说法是：离子束刻蚀是物理方法，反应离子刻蚀是化学方法。...

就是，如楼上所言，你原帖中并未提及反应离子刻蚀！

物理方法还是化学方法取决于你所用的气体源与被轰击的样品表面是否存在化学反应，如果你的气体源，如原帖中提到的Ar是属于惰性气体，一般不会跟其他元素有化学反应，所以一般都是纯物理过程。而当你气体源选择活性气体，如你用氢气作为起源去轰击碳材料，那么就有化学反应生成碳氢化合物，而并非纯粹的物理过程。