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关于光刻胶的一些问题
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hello_Jzz
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关于光刻胶的一些问题
最近在弄光刻胶,遇到了一个棘手的问题,就是在等离子刻蚀后,光刻胶发生变性,不能被丙酮去掉。想问问大家有没有遇到过这类的问题,是怎么解决的?
有用过光刻胶的朋友都说说自己用的胶的型号、用途吧,咱们可以交流一下,回头可以写一个总结类的帖子,造福大家~
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2013-05-31 08:35:11
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因为等离子体里含紫外光,对光胶曝光了……
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2013-06-01 04:42:47
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Bearsu
at 2013-06-01 04:42:47
因为等离子体里含紫外光,对光胶曝光了……
哦?还是第一次听说,如果这样的话,
1、曝光了的话,也应该可以用丙酮什么的去掉啊。
2、等离子体为什么会有紫外线,虽然看上去是紫色的……
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2013-06-01 08:20:03
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哦?还是第一次听说,如果这样的话,
1、曝光了的话,也应该可以用丙酮什么的去掉啊。
2、等离子体为什么会有紫外线,虽然看上去是紫色的……...
去掉是指develop还是remove?两个概念完全不一样的
我觉得大概是去掉,那如果可以用强酸呗,或者用擦镜纸,沾点儿丙酮强行擦
我们这里的Plasma cleaner中看到紫色了,那产生的光子不是紫外波长还是红外波长?我也不知道你用啥光胶,有的光胶在plasma中会被清掉的……我就遇到过T T
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7楼
2013-06-01 11:21:15
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Bearsu
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去掉是指develop还是remove?两个概念完全不一样的
我觉得大概是去掉,那如果可以用强酸呗,或者用擦镜纸,沾点儿丙酮强行擦
我们这里的Plasma cleaner中看到紫色了,那产生的光子不是紫外波长还是红外波长?我也 ...
哈哈,我现在是在remove,develop是显影吧,那一步很简单,因为没有什么特殊处理,就是曝光、显影。但是我们还涉及到刻蚀,其实我特别想知道,等离子体和反应离子有什么区别,因为我两个仪器都用过,而且源都是Ar气。
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2013-06-01 14:19:27
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sunxiaoyu202
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还是在等离子体刻蚀里,加入氧气,它与光刻胶进行反应,即去除了;或直接用氩气物理轰击去除,但不好控制。光刻胶的种类就太多了,现在新胶越来越多,越来越细分,大家还是在围绕自己的设备选择合适的胶。
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9楼
2013-06-20 11:38:42
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hello_Jzz
at 2013-06-01 14:19:27
哈哈,我现在是在remove,develop是显影吧,那一步很简单,因为没有什么特殊处理,就是曝光、显影。但是我们还涉及到刻蚀,其实我特别想知道,等离子体和反应离子有什么区别,因为我两个仪器都用过,而且源都是Ar气 ...
反应离子刻蚀,用的就是等离子体。反应可以是物理反应(氩气),也可以是化学反应(氟基或氯基气体,氧气等)。
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10楼
2013-06-20 11:42:50
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等离子体刻蚀主要靠物理轰击,就像水滴石穿一样;反应离子刻蚀就像名字一样,靠化学反应进行刻蚀,物理轰击作用很小!
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11楼
2013-08-22 18:14:32
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--曝光出问题了吧
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2013-08-23 10:55:41
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perry_ping
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我们目前也发现经等离子刻蚀后胶变性,直接用强酸去了,丙酮去不掉
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13楼
2015-01-14 15:51:03
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tigerkf
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