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dingyy419铜虫 (初入文坛)
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关于台阶仪测量厚度的问题
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| 用磁控溅射方法制备薄膜，先是在硅片上镀Ti，然后在Ti上镀Co，都是10多纳米厚，如果想用台阶仪测量Ti膜和Co膜的厚度，镀膜的时候需要怎么做呢？ |
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2楼2013-03-13 19:48:21
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dingyy419
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5楼2013-03-14 13:52:16
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没有膜厚检测仪，就用个笨办法： 分别镀带台阶的Ti膜和Co膜，要镀厚一些，时间长一些，这样用台阶仪测量的数据会准确些，然后用厚度除以时间，得出两种膜的沉积速率，然后镀你的样品，用沉积速率来估算各层所需的沉积时间。 但这里有个问题，就是薄膜在初始沉积阶段有一个形核时间，因此初始阶段的沉积速率与后面的不一定一致，因此如果你想要得到更精确的，还有一个更笨的办法： 用上一个笨办法估算的10纳米的沉积时间，交替沉积Ti和Co的多层膜，（自然也要遮出台阶），层数要多一些，厚一些，然后再用台阶仪测量，根据层数计算各层的厚度是否是10纳米，如果不是，调整单层的沉积时间，镀膜再测，直至测量计算的层厚正好为10纳米。 |
6楼2013-03-15 00:53:16
ludou2009
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