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dingyy419

铜虫 (初入文坛)

[求助] 关于台阶仪测量厚度的问题

用磁控溅射方法制备薄膜,先是在硅片上镀Ti,然后在Ti上镀Co,都是10多纳米厚,如果想用台阶仪测量Ti膜和Co膜的厚度,镀膜的时候需要怎么做呢?
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wangbo1966

新虫 (小有名气)

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dingyy419: 金币+1, ★★★很有帮助 2013-03-14 13:57:14
放基片时,样品旁边放一陪片,遮住一部分,这样镀膜后去掉遮盖物就会出现一个台阶,用台阶仪测出台阶的高度,就是膜的厚度。注意:遮盖物应尽量薄,边缘应整齐,这样产生的台阶才会陡峭,便于测量。
不过,对于10纳米的厚度,用台阶仪来测,误差会很大,因为已经接近台阶仪的分辨率的量级了。
建议找一个溅射设备上安装有膜厚监测仪的设备。膜厚监测仪用晶体振荡频率作为传感信号,灵敏度很高,理论上可达“埃”的量级。另外还是原位监测,更方便。
2楼2013-03-13 19:48:21
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yswyx

专家顾问 (著名写手)


【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
引用回帖:
2楼: Originally posted by wangbo1966 at 2013-03-13 19:48:21
放基片时,样品旁边放一陪片,遮住一部分,这样镀膜后去掉遮盖物就会出现一个台阶,用台阶仪测出台阶的高度,就是膜的厚度。注意:遮盖物应尽量薄,边缘应整齐,这样产生的台阶才会陡峭,便于测量。
不过,对于10纳 ...

楼上基本正解。最好是有光学轮廓仪之类可以测台阶的,方便,准确。
3楼2013-03-13 19:58:11
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guoguixin1

木虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

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先在硅片上甩上光刻胶,然后镀膜,之后将胶剥下就可以测

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
4楼2013-03-14 06:10:51
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dingyy419

铜虫 (初入文坛)

引用回帖:
2楼: Originally posted by wangbo1966 at 2013-03-13 19:48:21
放基片时,样品旁边放一陪片,遮住一部分,这样镀膜后去掉遮盖物就会出现一个台阶,用台阶仪测出台阶的高度,就是膜的厚度。注意:遮盖物应尽量薄,边缘应整齐,这样产生的台阶才会陡峭,便于测量。
不过,对于10纳 ...

谢谢你的帮助,可是没有带有膜厚监测仪的设备
5楼2013-03-14 13:52:16
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wangbo1966

新虫 (小有名气)

引用回帖:
5楼: Originally posted by dingyy419 at 2013-03-14 13:52:16
谢谢你的帮助,可是没有带有膜厚监测仪的设备...

没有膜厚检测仪,就用个笨办法:
分别镀带台阶的Ti膜和Co膜,要镀厚一些,时间长一些,这样用台阶仪测量的数据会准确些,然后用厚度除以时间,得出两种膜的沉积速率,然后镀你的样品,用沉积速率来估算各层所需的沉积时间。
但这里有个问题,就是薄膜在初始沉积阶段有一个形核时间,因此初始阶段的沉积速率与后面的不一定一致,因此如果你想要得到更精确的,还有一个更笨的办法:
用上一个笨办法估算的10纳米的沉积时间,交替沉积Ti和Co的多层膜,(自然也要遮出台阶),层数要多一些,厚一些,然后再用台阶仪测量,根据层数计算各层的厚度是否是10纳米,如果不是,调整单层的沉积时间,镀膜再测,直至测量计算的层厚正好为10纳米。
6楼2013-03-15 00:53:16
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ludou2009

银虫 (正式写手)

引用回帖:
4楼: Originally posted by guoguixin1 at 2013-03-14 06:10:51
先在硅片上甩上光刻胶,然后镀膜,之后将胶剥下就可以测

我对楼主说的这个方法不太懂,能具体点吗?怎么将胶剥下,剥下后膜又转移到哪里了?
7楼2013-10-23 16:21:44
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我就是me

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
3楼: Originally posted by yswyx at 2013-03-13 19:58:11
楼上基本正解。最好是有光学轮廓仪之类可以测台阶的,方便,准确。...

您好,能介绍一下光学轮廓仪测台阶的原理吗
踏实认真
8楼2016-04-22 10:47:04
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elastico

新虫 (初入文坛)

引用回帖:
2楼: Originally posted by wangbo1966 at 2013-03-13 19:48:21
放基片时,样品旁边放一陪片,遮住一部分,这样镀膜后去掉遮盖物就会出现一个台阶,用台阶仪测出台阶的高度,就是膜的厚度。注意:遮盖物应尽量薄,边缘应整齐,这样产生的台阶才会陡峭,便于测量。
不过,对于10纳 ...

请问陪片一般用什么做呢?
9楼2017-04-28 21:36:26
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