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dingyy419铜虫 (初入文坛)
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关于台阶仪测量厚度的问题
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| 用磁控溅射方法制备薄膜,先是在硅片上镀Ti,然后在Ti上镀Co,都是10多纳米厚,如果想用台阶仪测量Ti膜和Co膜的厚度,镀膜的时候需要怎么做呢? |
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2楼2013-03-13 19:48:21
yswyx
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dingyy419
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wangbo1966
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没有膜厚检测仪,就用个笨办法: 分别镀带台阶的Ti膜和Co膜,要镀厚一些,时间长一些,这样用台阶仪测量的数据会准确些,然后用厚度除以时间,得出两种膜的沉积速率,然后镀你的样品,用沉积速率来估算各层所需的沉积时间。 但这里有个问题,就是薄膜在初始沉积阶段有一个形核时间,因此初始阶段的沉积速率与后面的不一定一致,因此如果你想要得到更精确的,还有一个更笨的办法: 用上一个笨办法估算的10纳米的沉积时间,交替沉积Ti和Co的多层膜,(自然也要遮出台阶),层数要多一些,厚一些,然后再用台阶仪测量,根据层数计算各层的厚度是否是10纳米,如果不是,调整单层的沉积时间,镀膜再测,直至测量计算的层厚正好为10纳米。 |
6楼2013-03-15 00:53:16
ludou2009
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