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SHY31

至尊木虫 (知名作家)

小木虫研究生院西南地区区长

应助: 58 (初中生)
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在线: 1512小时
虫号: 315911
注册: 2007-03-03
性别: GG
专业: 半导体材料

[求助] 关于半导体氧化物缺陷方面的问题

请问氧化物一般都存在缺陷

通过材料工艺控制的方法，
如何能增加材料的缺陷？主要是点缺陷，氧空位等

又如何减少氧化物的缺陷呢，例如加入还原气体烧结，或者辐射？希望有人给个详细的说法最好是教科书的那种谢谢

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小木虫研究生院

1楼 2013-02-23 11:41:39

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taofei

捐助贵宾 (正式写手)

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【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
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SHY31: 金币+10, ★有帮助, 1 2013-02-27 11:23:57

楼主好像说反了，增加氧缺陷，要在还原性氛围中烧
减少氧缺陷要在氧化性气氛中烧
或者通过各种的阳离子掺杂和阴离子掺杂来制造空位

3楼2013-02-25 16:54:39

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SHY31

至尊木虫 (知名作家)

2楼2013-02-23 11:46:59

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