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SHY31

至尊木虫 (知名作家)

小木虫研究生院西南地区区长

优秀版主

[求助] 关于半导体氧化物缺陷方面的问题

请问氧化物一般都存在缺陷

通过材料工艺控制的方法,
如何能增加材料的缺陷?主要是点缺陷,氧空位等

又如何减少氧化物的缺陷呢,例如加入还原气体烧结,或者辐射? 希望有人给个详细的说法 最好是教科书的那种  谢谢
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小木虫研究生院
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SHY31

至尊木虫 (知名作家)

2楼2013-02-23 11:46:59
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taofei

捐助贵宾 (正式写手)

【答案】应助回帖

★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★ ★
感谢参与,应助指数 +1
SHY31: 金币+10, 有帮助, 1 2013-02-27 11:23:57
楼主好像说反了,增加氧缺陷,要在还原性氛围中烧
减少氧缺陷要在氧化性气氛中烧
或者通过各种的阳离子掺杂和阴离子掺杂来制造空位
3楼2013-02-25 16:54:39
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