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[交流]
关于磁控溅射的初始条件选择问题
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据了解， 对磁控溅射工艺，（制备金属薄膜），需要先在不同气压下做靶的溅射电流-溅射电压扫描，然后根据得到的多条IV曲线选择工作时溅射电流范围，请问选择哪一部分？为什么这么选择？ |
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2楼2012-11-26 19:04:34