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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 金属 » 设备仪器 » 关于磁控溅射的初始条件选择问题
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vincentwz

铁杆木虫 (著名写手)

[交流] 关于磁控溅射的初始条件选择问题

据了解，
对磁控溅射工艺，（制备金属薄膜），需要先在不同气压下做靶的溅射电流-溅射电压扫描，然后根据得到的多条IV曲线选择工作时溅射电流范围，请问选择哪一部分？为什么这么选择？
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1楼 2012-09-07 15:11:26
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dxf930

金虫 (正式写手)
★
小木虫: 金币+0.5, 给个红包，谢谢回帖
中间的点，不行再试试上下的点。回归曲线在中间的位置是最宽的。

[ 发自手机版 http://muchong.com/3g ]
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2楼2012-11-26 19:04:34
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