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请教金半接触 肖特基势垒的问题,多谢!
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jlu_w
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[交流]
请教金半接触 肖特基势垒的问题,多谢!
理想情况下,金属和半导体接触是否形成肖特基势垒,是由双方的功函数决定;
金半接触肖特基势垒高度可由 金属功函数 减去 半导体电子亲和势求出,
那么,功函数相等的金属和半导体间还是会存在肖特基势垒的,只不过势垒的高度等于 半导体费米能级到 导带低的距离, 这个势垒高度不会对金半接触产生整流效果。。。
请问高人,小弟分析的对否~
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1楼
2012-07-18 13:03:54
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luhaijiang
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jlu_w(金币+1): 谢谢参与
金半接触肖特基势垒高度是 金属和半导体的费米能级之差,
功函数相等的金属和半导体间不会存在肖特基势垒。
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4楼
2012-07-18 13:40:51
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jlu_w
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4楼
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Originally posted by
luhaijiang
at 2012-07-18 13:40:51
金半接触肖特基势垒高度是 金属和半导体的费米能级之差,
功函数相等的金属和半导体间不会存在肖特基势垒。
多谢回复! 费米能级差 应该等于 电子从半导体到金属需要越过的势垒,一般为自建电势, 而肖特基势垒是电子从金属向半导体传输需要越过的势垒。 二者相差 半导体导带底和费米能级 的距离。
还请深解!多谢!
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5楼
2012-07-19 02:53:56
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我们玩换座位
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jlu_w(金币+1): 谢谢参与
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5楼
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jlu_w
at 2012-07-19 02:53:56
多谢回复! 费米能级差 应该等于 电子从半导体到金属需要越过的势垒,一般为自建电势, 而肖特基势垒是电子从金属向半导体传输需要越过的势垒。 二者相差 半导体导带底和费米能级 的距离。
还请深解!多谢!...
没有规定肖特基势垒一定就是金属中的电子迁移到半导体中。它的产生更笼统的说就是随外加电压的改变,载流子迁移发生变化。由于金属半导体的费米能级高度不同导致电子分布不均,电子会从费米能级高的一端流向低的一端。还有半导体的功函数定义是费米能级到真空电子能级的能量差,而不是导带底。这两个概念似乎还是有差异的。真空电子能级就是指电子成为真正的自由电子。而导带的电子是参与导电的最外层价电子。
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6楼
2012-07-20 09:40:30
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jlu_w
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6楼
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Originally posted by
我们玩换座位
at 2012-07-20 09:40:30
没有规定肖特基势垒一定就是金属中的电子迁移到半导体中。它的产生更笼统的说就是随外加电压的改变,载流子迁移发生变化。由于金属半导体的费米能级高度不同导致电子分布不均,电子会从费米能级高的一端流向低的一 ...
多谢回复!!!理论需要讨论。。。不过大哥好像没有真正理解我的意思,好像我也没理解你的意思。。。(除了基本概念)。
做一个假设,Al和n-Si接触的情况:Al功函数4.25eV,16次幂掺杂的n-Si的功函数一般也为4.25eV(n-Si电子亲和势4.05eV),所以不考虑表面态二者因为功函数相等(费米能级齐平)而不发生电子转移。但是肖特基势垒的计算公式可以为:Al的功函数减去n-Si的电子亲和势,即4.25-4.05=0.2eV。这么看来,Al和是n-Si之间是存在肖特基势垒的,只不过这0.2eV的势垒,正好也等于n-Si费米能级到其导带底的距离,不会产生整流效果。 呵呵~
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7楼
2012-07-20 10:25:18
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jlu_w
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6楼
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Originally posted by
我们玩换座位
at 2012-07-20 09:40:30
没有规定肖特基势垒一定就是金属中的电子迁移到半导体中。它的产生更笼统的说就是随外加电压的改变,载流子迁移发生变化。由于金属半导体的费米能级高度不同导致电子分布不均,电子会从费米能级高的一端流向低的一 ...
对于这位兄台所说的肖特基势垒是随外加偏压载流子迁移发生变化,实际上,对于理想情况下的肖特基结,不计表面态,镜像力和隧道效应,在反向偏压下(金属接负偏压),根据热电子发射理论,反向电流是饱和的,载流子的迁移影响应该不大,除了少子(探针接触)可能会有所影响。
欢迎指正,理论需要讨论~
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8楼
2012-07-20 10:34:58
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423445980
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jlu_w(金币+1): 谢谢参与
半导体物理里有明确的定义和图,去看看就明白了,你理解的有错误
我说的不是楼主,是回答你问题的,他说的是接触电势差不是肖特基势垒
[
Last edited by 423445980 on 2012-7-20 at 16:13
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9楼
2012-07-20 15:55:39
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gyp413
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jlu_w(金币+1): 谢谢参与
啊,不懂,灌水,
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2楼
2012-07-18 13:14:15
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423445980
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小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
不过他说的并不是完全错的。肖特基结的定义说的很清楚了。
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10楼
2012-07-20 16:15:41
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7楼
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Originally posted by
jlu_w
at 2012-07-20 10:25:18
多谢回复!!!理论需要讨论。。。不过大哥好像没有真正理解我的意思,好像我也没理解你的意思。。。(除了基本概念)。
做一个假设,Al和n-Si接触的情况:Al功函数4.25eV,16次幂掺杂的n-Si的功函数一般也为4.25 ...
可能是我看的书比较少,还真不知道肖特基势垒的计算公式有那么简单。在半导体物理书上我就找到一个势垒厚度随外压变化的公式,那里面有三个变量:外压,表面势,电子浓度。从前面的推导可知表面势就是内建电场的电势差,也就是功函数之差除以q得到的。你用的那个公式很简单,我觉得应该是有什么前提条件,你直接用那个公式就忘记考虑了那些个前提条件,所以才得到这样一个结论。试着用最原始的公式来做。
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11楼
2012-07-25 09:04:22
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AnnF
3楼
2012-07-18 13:32
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jlu_w(金币+1): 谢谢参与
xc272049844
12楼
2014-04-21 20:31
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