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关于简单读取态密度图和能带信息的方法
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6楼2012-03-26 08:36:34
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小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
fzx2008: 金币+3, 谢谢指教 2012-03-26 09:29:29
hwceng0816: 金币+1 2012-05-19 14:14:58
小木虫: 金币+0.5, 给个红包,谢谢回帖
fzx2008: 金币+3, 谢谢指教 2012-03-26 09:29:29
hwceng0816: 金币+1 2012-05-19 14:14:58
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大部分纯的硅材料或者纳米结构是半导体(不是所有,取决于结构)。 图片中的体系应该是K掺杂Si的这样一种体系。 据我的经验,图中没掺杂的Si体系应该是半导体,如果该体系符合刚性能带近似的话,中性半导体的带隙在 1.2 eV左右。 但是,现在是K掺杂后的体系DOS的图片。图中,费米能级处态密度是有非零的具体数值的,意味着费米面与能带交叉,产生了部分填充的能带。 这样的体系,很显然具有导电性的金属行为,带隙为零。 |
8楼2012-03-26 09:28:06
11楼2012-03-26 22:44:50
2楼2012-03-25 19:50:50
3楼2012-03-25 19:52:09
4楼2012-03-25 21:08:45
5楼2012-03-25 22:53:18
7楼2012-03-26 09:09:19
9楼2012-03-26 09:45:40
10楼2012-03-26 14:29:50
12楼2012-04-23 23:18:30
13楼2012-05-06 21:12:04
14楼2012-08-27 11:56:12













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