| 查看: 5807 | 回复: 21 | |||||
| 当前只显示满足指定条件的回帖，点击这里查看本话题的所有回帖 | |||||
[求助]
磁控溅射能起辉，但不能沉积
|
|||||
|
我用射频磁控溅射，溅射Al靶，功率试过从80W增加到200W，时间为两小时。能起辉，但石英基片上没任何东西。之前反应溅射锌靶镀氧化锌，能镀出氧化锌，但怎么都不厚，而直接溅射锌（同一靶材），却没有沉积锌。 [ Last edited by qiuzc on 2012-3-23 at 09:11 ] |
回复此楼» 收录本帖的淘帖专辑推荐
 反应磁控溅射 | 薄膜材料和器件表征 | 薄膜材料和器件制备 |
» 猜你喜欢
今天务委会开完了，明天出结果吗
已经有22人回复
-
售SCI一区T0P文章，我:8O.55.1.O.5.4,科目齐全,可+急
已经有3人回复
-
2026年8月25日国自然放榜前突然收到列入评审专家邮件，有关系吗？
已经有19人回复
-
售SCI一区T0P文章，我:8.O.55.1.O.5.4,科目全,可+急
已经有3人回复
-
在坚冰还盖着北海的时候，我看到了怒放的梅花。
已经有9人回复
-
明天应该可查了！？
已经有6人回复
-
有没有大神帮我看看基金代码
已经有10人回复
-
放榜前的不淡定
已经有19人回复
-
某些机构，以效率低为荣，以效率低作为存在感
已经有10人回复
-
2026国自然函评费到账
已经有23人回复
» 本主题相关价值贴推荐，对您同样有帮助:
- 电子束蒸发镀膜和磁控溅射镀膜所得薄膜有什么区别？
已经有17人回复
- 射频磁控不起辉
已经有6人回复
- 【求助】请教为什么有人用磁控溅射金属膜用的是射频电源
已经有21人回复
- 【交流】请问用磁控溅射镀Ag膜时怎样留下出一条台阶以方便后面用台阶仪测其厚度呢？
已经有26人回复
- 【求助】射频溅射反射功率过高，不起辉，无自偏压
已经有12人回复
- 【求助】为什么磁控溅射装备以前能起辉而现在不能起辉
已经有12人回复
- 【求助】磁控溅射FeCo、Ag、Cu膜的辉光颜色？
已经有14人回复
feiepeng
金虫 (小有名气)
- 应助: 8 (幼儿园)
- 金币: 1285.1
- 红花: 2
- 帖子: 90
- 在线: 384.4小时
- 虫号: 1483951
- 注册: 2011-11-09
- 性别: GG
- 专业: 人工晶体
8楼2012-03-26 09:37:08
foxs2 
木虫 (文坛精英)
- 应助: 25 (小学生)
- 金币: 1021.6
- 散金: 4128
- 红花: 7
- 帖子: 26584
- 在线: 406.8小时
- 虫号: 1661572
- 注册: 2012-03-03
- 性别: GG
- 专业: 无机非金属类光电信息与功
2楼2012-03-24 11:57:33
leongoall
专家顾问 (知名作家)
P-M-I之初生牛犊
- 应助: 144 (高中生)
- 贵宾: 0.055
- 金币: 7602.7
- 散金: 627
- 红花: 35
- 沙发: 3
- 帖子: 5347
- 在线: 1063小时
- 虫号: 490263
- 注册: 2008-01-03
- 性别: GG
- 专业: 等离子体物理
- 管辖: 物理
【答案】应助回帖
★ ★ ★
感谢参与，应助指数 +1
qiuzc: 金币+3 2012-05-14 22:03:39
感谢参与，应助指数 +1
qiuzc: 金币+3 2012-05-14 22:03:39
|
楼主为何利用射频源来溅射金属Al或者Zn呢？射频磁控溅射一般都是针对绝缘体的靶材或者导电性相对较差的靶材，利用同一周期内电子比正离子速度快进而沉积到靶材上的电子数目比正离子数目多从而建立起自偏压对离子进行加速实现靶的溅射。对于导电性很好的金属靶，很难建立较高的自偏压，正离子无法获得足够的能量去轰击靶材。对于楼主说的反应溅射的情况又可以，这是因为氧气与金属Zn现在表面发生氧化反应形成一层ZnO半导体，从而可以建立足以加速正离子的自偏压。 楼主可以用直流电源溅射金属靶，相信200W的直流功率是足够的！ |
3楼2012-03-24 17:36:46
wanyue1111
木虫 (著名写手)
- 应助: 20 (小学生)
- 金币: 2261.3
- 散金: 408
- 红花: 4
- 帖子: 1586
- 在线: 563.3小时
- 虫号: 1152217
- 注册: 2010-11-21
- 性别: GG
- 专业: 半导体材料
4楼2012-03-25 14:00:23
20