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北京石油化工学院2026年研究生招生接收调剂公告
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apyash

新虫 (初入文坛)

[求助] 关于磁控溅射控制膜厚的问题 已有2人参与

我是用磁控溅射法镀多层膜,研究其光谱特性的。现在要镀的ag、si、sio2等膜厚主要集中在5-20纳米,实验过程中发现这个厚度很难控制,而且重复度比较差。
    之前我在固定工艺下溅射不同时间,然后用椭偏仪测了这些膜的n,k,d。发现两个问题:1.膜厚较小时折射率随厚度变化比较大;2.膜厚较小时,膜厚与时间的关系不是线性的,而且重复性比较差。
    我一直做不出令自己满意的样品,不知是不是这些原因导致的。不知大家有没有遇到过类似问题。顺便问一下大家膜厚是怎么定的。
    我用的镀膜机是沈阳科仪的JGP800。
    谢谢!
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yanhurui

新虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

感谢参与,应助指数 +1
我遇到的问题和你是一样的
用得仪器也是沈阳科仪的。同问
2楼2012-03-05 17:37:17
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lanyu110

禁虫 (小有名气)

本帖内容被屏蔽

3楼2014-05-16 09:46:37
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finetx

铜虫 (小有名气)

【答案】应助回帖

这个你还是最好做上两炉做个TEM仔细判断一下沉积率与电流、时间的关系
三人行必有我师
4楼2014-06-10 15:18:42
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