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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 金属 » 交流互助 » 电弧离子镀过程中金属液滴对薄膜的污染
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zs1217

金虫 (小有名气)

[交流] 电弧离子镀过程中金属液滴对薄膜的污染 已有6人参与

不知道有人做 关于电弧离子镀过程中  金属液滴对薄膜污染问题的研究没， 有的话交流交流。 我现在 做得工作主要是从 基体方面考虑对液滴的影响。
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1楼 2011-11-24 19:09:38
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zs1217

金虫 (小有名气)
引用回帖:
3楼: Originally posted by gangkergod at 2011-11-25 22:36:48:
现在脉冲偏压减少大液滴研究比较多

我们现在不是说怎么消除或减少液滴，只是为了研究基体表面特性到底对液滴有什么影响，因为我们在做实验的时候发现不同的表面特性确实对液滴的数量、大小及分布有影响。因为现在从弧电流、反应气体分压、脉冲偏压、磁过滤等工艺参数方面都研究的比较多了。所以我们想从不同的方面考虑下。
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6楼2011-11-29 09:40:02
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plasma1953

木虫 (正式写手)
★ ★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖
zhyq8767(金币+1): 感谢交流！ 2011-11-25 09:16:57
金属液滴（大颗粒）其实是所沉积薄膜的主要贡献（具体百分比无定论），消除大颗粒的影响，目前主流方法是利用磁过滤装置。
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2楼2011-11-25 08:33:55
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gangkergod

新虫 (初入文坛)
★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖
现在脉冲偏压减少大液滴研究比较多
赞一下(1人) 回复此楼
3楼2011-11-25 22:36:48
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csuchenli927

金虫 (小有名气)
★
小木虫(金币+0.5):给个红包，谢谢回帖
基体应该对液滴没什么影响吧？
我也在思考这方面的问题，除了磁过滤，增加基体偏压及反应气体的压力会减少液滴，应该还有一些其它的方法，思考ing.
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4楼2011-11-27 11:16:28
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