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lchpy木虫 (职业作家)
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你是看好CVD生长的石墨烯呢 还是化学办法制备的石墨烯 已有139人参与
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[ Last edited by lchpy on 2011-10-18 at 21:12 ] |
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48楼是正解。 关键是要看你用石墨烯的什么特点。 如果是想做透明导电薄膜，cvd肯定是最好的，而且用在电子行业也是化学法无法比拟的。不过成本确实是问题，其实气体不是很贵了，关键是设备复杂，需要高温且温度稳定，还有就是基底催化剂的纯度。不过要是CVD薄膜用在OLED，LED，触摸屏方面还是可以不太考虑成本的，不过要是用在太阳能电池上那可就亏大发了。cvd出来的G膜的透光率和导电率还是很NB的，化学法要是能做到T在85%，R在100ohm/sq，就能代替CVD了，不过还是有难度的。 GO要是做复合的话，还是很强大的，单层加上表面的功能团，很适合跟聚合物，纳米粒子什么的复合，不过要是用RGO的电导性，我看还是一条不归路啊，估计那性能也就是发发文章了。 化学法制备G，我一直看好其他的方法，氧化还原我做了几次就不再做了，不稳定的因素太多，这里就不细说哪些不稳定因素了。所以有一套制备低成本，低缺陷，高导电，高品质的石墨烯的方法才是王道，这肯定会推动石墨烯在化工领域的应用。导电聚合物，热塑，锂电，超级电容器，染敏太阳能的添加剂，催化剂载体，气敏等等，能应用的领域太多了，需求也可定很大。所以我很看好石墨烯，我猜想，如果G的成本真的很低的话，估计超级电容器有可能会代替了锂电呢。现在确实有几高质量的文章说的方法有一定的应用前景，不过成本还有待提高。我手里也有一个方法跟别人的都不太一样，去年做出来的一直再改进中，现在用我的G做出来一些G-film，跟cvd的还是有一定的差距啊，心烦呐。不过上面的指标就是我的追求，希望能一年内解决。哎，透剧了，不说了！ 说的不对，大家指正。 |
97楼2011-10-26 09:56:55
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3楼2011-10-18 20:21:03
5楼2011-10-18 20:33:00
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CVD前景很好，能制备出大面的石墨烯，用Cu作为催化衬底单层石墨烯含量高达95%，可以和现有的Si工艺相兼容。感觉氧化还原的方法不适合大规模生产，耗时比较长，氧化剂和还原剂容易对环境造成污染…… 有个小疑问啊：氧化还原法制备石墨烯的过程中有一步是，用硼氢化钠除去氧化石墨烯上的部分含氧官能团，最后再用肼除去剩余的氧官能团，我的疑问是，为什么不用省去硼氢化钠，直接用还原剂肼直接除去大量的含氧官能团呢？ |
9楼2011-10-18 22:03:56
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