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gl_zju

金虫 (小有名气)

[求助] 电子束蒸发镀膜和磁控溅射镀膜所得薄膜有什么区别?

电子束蒸发镀膜和磁控溅射镀膜所得薄膜有什么区别?两者镀膜质量有差异吗?
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纳米材料(一维硅纳米材料)交流学习
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玖月冥

金虫 (正式写手)

引用回帖:
Originally posted by wwangwanhu at 2011-07-24 16:15:14:
说明书上说磁控溅射可以镀非金属材料。
但现在还没有使用过非金属材料

磁控溅射可以镀非金属材料的,比如氧化物的,我镀过氧化铜还有半导体的硼只不过需要的功率比较大,而且时间比较长
6楼2011-07-25 09:30:26
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henryfrank

木虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

gl_zju(金币+3): 2011-07-24 23:53:42
我一直用这两种机器镀膜,也曾经思考这两种机器到底有什么不同,其实吧它们的适用范围不一样,有的材料不能用电子书蒸发,比如说CoSiB,镀出来成分偏析很大。对于同一种都能镀的材料,我觉得电子束蒸发要好一些,薄膜缺陷较少,磁控溅射溅射出来的粒子带电荷比较多,电子束蒸发要好一些。大家有什么想法可以讨论啊
潜心科研
2楼2011-07-24 01:16:31
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wwangwanhu

木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

gl_zju(金币+2): 2011-07-24 23:53:46
说明书上说磁控溅射可以镀非金属材料。
但现在还没有使用过非金属材料
3楼2011-07-24 16:15:14
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sensing5668

木虫 (小有名气)

MS做出来的薄膜一般致密性更好,与基片结合也更紧密些;EB适用材料的范围较广
4楼2011-07-25 09:01:51
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