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小木虫论坛-学术科研互动平台 » 材料区 » 微米和纳米 » 微纳加工 » 电子束蒸发镀膜和磁控溅射镀膜所得薄膜有什么区别？
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gl_zju

金虫 (小有名气)

[求助] 电子束蒸发镀膜和磁控溅射镀膜所得薄膜有什么区别？

电子束蒸发镀膜和磁控溅射镀膜所得薄膜有什么区别？两者镀膜质量有差异吗？
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1楼 2011-07-23 21:16:36
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wwangwanhu

木虫 (正式写手)

【答案】应助回帖

gl_zju(金币+2): 2011-07-24 23:53:46
说明书上说磁控溅射可以镀非金属材料。
但现在还没有使用过非金属材料
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3楼2011-07-24 16:15:14
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henryfrank

木虫 (初入文坛)

【答案】应助回帖

gl_zju(金币+3): 2011-07-24 23:53:42
我一直用这两种机器镀膜，也曾经思考这两种机器到底有什么不同，其实吧它们的适用范围不一样，有的材料不能用电子书蒸发，比如说CoSiB，镀出来成分偏析很大。对于同一种都能镀的材料，我觉得电子束蒸发要好一些，薄膜缺陷较少，磁控溅射溅射出来的粒子带电荷比较多，电子束蒸发要好一些。大家有什么想法可以讨论啊
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潜心科研
2楼2011-07-24 01:16:31
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sensing5668

木虫 (小有名气)
MS做出来的薄膜一般致密性更好，与基片结合也更紧密些；EB适用材料的范围较广
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4楼2011-07-25 09:01:51
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hanxiao242

银虫 (正式写手)
我也想知道呢！还有就是基底在两者腔体中能达到多少度啊？哪个温度低一些啊？我的用磁控的，基底好像都变性了！
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5楼2011-07-25 09:17:32
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