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【求助】请问反应离子刻蚀PMMA
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[交流]
【求助】请问反应离子刻蚀PMMA
用氧气
大概多久能刻掉1毫米?
谢谢
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Last edited by ldbz on 2010-12-15 at 16:04
]
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ldbz(金币+5):能不能给个数量级的概念,比如每分钟大概刻多少 2010-12-15 16:23:24
应该要考虑氧气的压强吧
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2楼
2010-12-15 16:21:07
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lijiao51566
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提高样品基片的散热性 降低刻蚀温度都可以提高垂直刻蚀速率 但侧向刻蚀速率也会提高
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3楼
2010-12-15 16:25:02
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lijiao51566
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ldbz(金币+5):谢谢 2010-12-15 17:40:04
反应离子刻蚀PMMA 的各向异性刻蚀研究 我也是在这篇文献里看的
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2010-12-15 16:31:51
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和功率,压力,流量有关
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2010-12-15 22:22:14
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ivanfigo
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ldbz(金币+40):谢谢了 2010-12-15 23:20:21
你干脆把金币都给我吧。
大约50w,10sccm,10pa,2nm每秒。
加大功率到100w或者150w,能达到5nm左右每秒貌似
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2010-12-15 22:28:45
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dugu
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ldbz(金币+5):thx 2010-12-15 23:22:40
可参阅文献
Plasma etch rate measurements of thin PMMA films and correlation with the glass transition temperature
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2010-12-15 23:17:17
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