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蓝宝石衬底 蓝宝石晶体是第三代半导体材料GaN外延层生长最好的衬底材料之一,其单晶制备工艺成熟。GaN为蓝光LED制作基材。 一、GaN外延层的衬底材料 1、SiC与GaN晶格失配度小,只有3.4%,但其热膨胀系数与GaN差别较大,易导致GaN外延层断裂,并制造成本高,为蓝宝石的10倍 2、Si成本低,与GaN晶格失配度大,达到17%,生长GaN比较难,与蓝宝石比较发光效率太低。 3、蓝宝石晶体结构相同(六方对称的纤锌矿晶体结构),与GaN晶格失配度大,达到13%,易导致GaN外延层高位错密度(108—109/cm2)。为此,在蓝宝石衬底上AlN或低温GaN外延层或SiO2层等,先进方法可使GaN外延层位错密度达到106/cm2水平。 二、蓝宝石、GaN的品质对光致发光的影响蓝宝石单晶生长技术复杂,获得低杂质、低位错、低缺陷的单晶比较困难。蓝宝石单晶质量对GaN外延层的质量有直接的影响,其杂质和缺陷会影响GaN外延层质量,从而影响器件质量(发光效率、漏电极、寿命等)。 蓝宝石单晶的位错密度一般为104/cm2数量级,它对GaN外延层位错密度(108—109/cm2)影响不大。 三、蓝宝石衬底制作主要包括粘片、粗磨、倒角、抛光、清洗等,将2英寸蓝宝石衬底由350—450μm(4英寸600μm左右)减到小于100μm(4英寸要厚一些 四、蓝宝石基板市场上2英寸蓝宝石基板的主要技术 高纯度 —— 99.99%以上(4—5N) 晶向 —— 主要是C面,C轴(0001)±0.3° 翘曲度 —— 20μm 厚度 —— 330μm—430μm±25μm 表面粗糙度 —— Ra<0.3 背面粗糙度 —— Ra<1μm(不是很严格) |
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9楼2011-05-10 13:58:16
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